[發明專利]用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法

在審

• 申請號: 202010278001.8
• 申請日: 2020-04-10
• 公開（公告）號: CN111304711A
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 邵江龍;馬江
• 申請（專利權）人: 中磁科技股份有限公司
• 主分類號: C25D5/14
• 分類號: C25D5/14;C23F11/10
• 代理公司: 北京中譽威圣知識產權代理有限公司 11279
• 代理人: 孫彥斌;張靜軒

1.一種用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，所述用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法包括如下步驟：

對釹鐵硼產品進行電鍍鎳處理，以得到電鍍鎳的釹鐵硼產品，其中，所述電鍍鎳處理包括鍍底鎳層、在所述底鎳層上鍍銅層、在所述銅層上鍍半光亮鎳層和在所述半光亮鎳層上鍍亮鎳層；

將所述電鍍鎳的釹鐵硼產品放置在有機封閉液中進行封閉處理，以在所述電鍍鎳的釹鐵硼產品的表面形成具有一定厚度的有機膜層；以及

將具有所述有機膜層的釹鐵硼產品的表面擦干，并進行烘干處理。

2.如權利要求1所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，所述有機封閉液由復合緩蝕劑和10#溶劑油組成，所述電鍍鎳的釹鐵硼產品完全浸入所述有機封閉液中，封閉處理時間為5min。

3.如權利要求2所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，所述有機膜層的厚度為0.002-0.003mm。

4.如權利要求1所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，烘干處理的溫度為70℃，烘干時間為30min。

5.如權利要求1所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，所述底鎳層的厚度、所述半光亮鎳的層厚度以及所述亮鎳層的厚度范圍均為0.004—0.006mm，所述銅鍍層厚度為0.003—0.005mm。

6.如權利要求1所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，在鍍底鎳層、鍍銅層、鍍半光亮鎳層、鍍光亮鎳層前后需要分別進行活化處理和二級回收，并且在每次活化處理后均進行三級逆流漂洗。

7.如權利要求1所述的用于解決釹鐵硼產品砂眼影響鹽霧的方法，其特征在于，在烘干處理后進行二次擦干。