[發(fā)明專利]一種雙面自動對位曝光的設(shè)備及方法

在審

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• 申請日: 2020-04-03
• 公開（公告）號: CN111258189A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴童慶;代毓平
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市大川光電設(shè)備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京科家知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11427
• 代理人: 宮建華

1.一種雙面自動對位曝光的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括工件上下料區(qū)與工件曝光區(qū)，所述工件上下料區(qū)設(shè)置有一下曬框組件，所述曝光區(qū)設(shè)置有上下相對設(shè)置的上曬框組件與另一下曬框組件，所述上曬框組件包括上曬框與驅(qū)動所述上曬框進行平移調(diào)整對位的上對位機構(gòu)，所述下曬框組件包括下曬框、設(shè)于所述下曬框上的工件定位銷以及驅(qū)動所述工件定位銷進行平移調(diào)整對位的下對位機構(gòu)，所述曝光區(qū)還設(shè)置有驅(qū)動所述上曬框組件升降的升降動力機構(gòu)、位于所述上曬框組件上方的上對位CCD視覺組件以及位于所述下曬框組件下方的下對位CCD視覺組件，所述工件上下料區(qū)與所述工件曝光區(qū)之間還設(shè)置有驅(qū)動兩所述下曬框組件之間進行交替換位的下曬框動力組件。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述上曬框包括上曬框玻璃、環(huán)繞固定所述上曬框玻璃的上曬框邊框以及對所述上曬框玻璃的下表面進行抽真空處理的若干第一真空氣嘴，所述若干第一真空氣嘴固設(shè)在所述上曬框玻璃上，所述下曬框包括下曬框玻璃、環(huán)繞固定所述下曬框玻璃的下曬框邊框以及對所述下曬框玻璃的上表面進行抽真空處理的若干第二真空氣嘴，所述若干第二真空氣嘴固設(shè)在所述下曬框玻璃上。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述工件上下料區(qū)還設(shè)置有用于將待曝光工件由上一工位轉(zhuǎn)移到所述下曬框組件上的上料機械手以及用于將已曝光工件由所述下曬框組件上轉(zhuǎn)移到下一工位的下料機械手；所述上料機械手包括上料吸附抓手、驅(qū)動所述上料吸附抓手升降的上料升降機構(gòu)以及驅(qū)動所述上料吸附抓手在所述上一工位與所述下曬框組件之間平移的上料平移機構(gòu)；所述下料機械手包括下料吸附抓手、驅(qū)動所述下料吸附抓手升降的下料升降動力電機以及驅(qū)動所述下料吸附抓手在所述下曬框組件與所述下一工位之間平移的下料平移機構(gòu)。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述工件上下料區(qū)與所述工件曝光區(qū)之間的相接處上方設(shè)置有下菲林清潔滾筒，以對所述下曬框組件上的下菲林進行滾涂清潔。

5.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，一所述下曬框組件的所述下曬框邊框的一側(cè)還設(shè)置有上菲林清潔滾筒，以對所述上曬框組件上的上菲林進行滾涂清潔。

6.一種雙面自動對位曝光的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括工件上下料區(qū)與工件曝光區(qū)，所述工件上下料區(qū)設(shè)置有一下曬框組件，所述曝光區(qū)設(shè)置有上下相對設(shè)置的上曬框組件與另一下曬框組件，所述上曬框組件包括上曬框與驅(qū)動所述上曬框進行平移調(diào)整對位的上對位機構(gòu)，所述下曬框組件包括下曬框以及設(shè)于所述下曬框上的工件定位銷，所述工件上下料區(qū)還設(shè)置有用于將待曝光工件由上一工位準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移到所述下曬框組件上的帶下對位CCD視覺組件的上料機械手，所述曝光區(qū)還設(shè)置有驅(qū)動所述上曬框組件升降的升降動力機構(gòu)以及位于所述上曬框組件上方的上對位CCD視覺組件，所述工件上下料區(qū)與所述工件曝光區(qū)之間還設(shè)置有驅(qū)動兩所述下曬框組件之間進行交替換位的下曬框動力組件。

7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述上曬框包括上曬框玻璃、環(huán)繞固定所述上曬框玻璃的上曬框邊框以及對所述上曬框玻璃的下表面進行抽真空處理的若干第一真空氣嘴，所述若干第一真空氣嘴固設(shè)在所述上曬框玻璃上，所述下曬框包括下曬框玻璃、環(huán)繞固定所述下曬框玻璃的下曬框邊框以及對所述下曬框玻璃的上表面進行抽真空處理的若干第二真空氣嘴，所述若干第二真空氣嘴固設(shè)在所述下曬框玻璃上。

8.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述工件上下料區(qū)還設(shè)置有用于將已曝光工件由所述下曬框組件上轉(zhuǎn)移到下一工位的下料機械手；所述上料機械手還包括上料吸附抓手、驅(qū)動所述上料吸附抓手與所述下對位CCD視覺組件一起升降的上料升降機構(gòu)以及驅(qū)動所述上料吸附抓手與所述下對位CCD視覺組件一起在所述上一工位與所述下曬框組件之間平移的上料平移機構(gòu)；所述下料機械手包括下料吸附抓手、驅(qū)動所述下料吸附抓手升降的下料升降動力電機以及驅(qū)動所述下料吸附抓手在所述下曬框組件與所述下一工位之間平移的下料平移機構(gòu)。