[發明專利]一種全電控二維光束掃描裝置有效
| 申請號： | 202010255346.1 | 申請日： | 2020-04-02 |
| 公開（公告）號： | CN111398983B | 公開（公告）日： | 2021-02-12 |
| 發明（設計）人： | 國偉華;談蘇;陸巧銀 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學 |
| 主分類號： | G01S17/66 | 分類號： | G01S17/66;G01S7/481 |
| 代理公司： | 深圳市迪斯卓越專利代理事務所(普通合伙) 44443 | 代理人： | 閔華明;李小艷 |
| 地址： | 430074 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 全電控 二維 光束 掃描 裝置 | ||
1.一種全電控二維光束掃描裝置，其特征在于，所述掃描裝置包括激光器、一維波導相控陣、MEMS反射鏡和控制芯片；所述激光器，用于發射激光光束；
所述一維波導相控陣用于由激光光束產生第一掃描光束并出射至所述MEMS反射鏡，所述第一掃描光束的光矢量垂直于第一軸，所述第一掃描光束的光矢量繞所述第一軸偏轉；
所述MEMS反射鏡用于將所述第一掃描光束反射至自由空間；所述MEMS反射鏡繞第二軸轉動，所述第二軸垂直于所述MEMS反射鏡的法線方向；
其中，所述第一軸與所述第二軸垂直，所述一維波導相控陣與所述MEMS反射鏡均電連接于所述控制芯片，以控制從MEMS反射鏡射出的第二掃描光束實現全空間二維掃描；
所述掃描裝置還包括柱透鏡，所述柱透鏡位于所述一維波導相控陣和所述MEMS反射鏡之間，所述第一掃描光束經所述柱透鏡透射后，入射至所述MEMS反射鏡；所述柱透鏡用于光束整形，壓縮所述第一掃描光束的發散角；
所述一維波導相控陣包括光耦合器、光分束器、光波導和光相移器；
所述光耦合器用于將激光耦合進所述光分束器；
所述光分束器用于將所述激光分束至光波導中；
所述光波導至少為兩根，每根所述光波導電連接一個獨立的光相移器，所述各光波導末端設置有光發射端面；
所述光相移器用于獨立控制與其電連接的所述光波導中的激光的相位；
所述光波導非均勻排列，用以抑制遠場邊模。
2.根據權利要求1所述的全電控二維光束掃描裝置，其特征在于，所述光發射端面上涂敷有增透膜。
3.根據權利要求1所述的全電控二維光束掃描裝置，其特征在于，所述光耦合器的耦合方式為垂直耦合或端面耦合。
4.根據權利要求1所述的全電控二維光束掃描裝置，其特征在于，所述光分束器是級聯的多模干涉耦合器，或Y分支，或星型耦合器。
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