[發明專利]多頻段電磁波屏蔽復合膜層及其制法和應用

有效

• 申請號: 202010251138.4
• 申請日: 2020-04-01
• 公開（公告）號: CN111304653B
• 公開（公告）日: 2022-03-08
• 發明（設計）人: 王春雨;姜龍濤;陳國欽;武高輝
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學（威海）
• 主分類號: C23C28/02
• 分類號: C23C28/02;C25D5/12;C25D3/56;C25D3/20;C25D3/12;C23C18/32
• 代理公司: 威海科星專利事務所 37202
• 代理人: 初姣姣

1.一種多頻段電磁波屏蔽復合膜層，其特征在于由內至外依次設有化學鍍鎳方法制備的打底鍍層，電鍍方法制備的梯度電磁屏蔽膜層、鐵鍍層以及外鍍層，所述梯度電磁屏蔽膜層包括兩層鐵鎳合金復合鍍層，第一層鐵鎳合金復合鍍層中鍍層合金Fe與Ni的質量比為3:7，主要成分為Fe₃₄Ni₆₆ ，第二層鐵鎳合金復合鍍層中鍍層合金中Fe與Ni的質量比為7:3，主要成分為Fe₆₄Ni₃₆。

2.根據權利要求1所述的一種多頻段電磁波屏蔽復合膜層，其特征在于所述鐵鎳合金復合鍍層中還含有鈷，含量為質量百分數3%-6%。

3.根據權利要求1所述的一種多頻段電磁波屏蔽復合膜層，其特征在于所述打底鍍層、梯度電磁屏蔽膜層、鐵鍍層以及外鍍層的每層厚度不超過20微米。

4.根據權利要求1所述的一種多頻段電磁波屏蔽復合膜層，其特征在于所述外鍍層為了滿足防腐和光潔度的需要，采用Ni鍍層。

5.一種如權利要求1-4中任意一項所述多頻段電磁波屏蔽復合膜層的制備方法，其特征在于包含以下步驟：

步驟1：對待處理基材進行打底鍍層處理，化學鍍鎳層獲得打底鍍層；

步驟2：在打底導電層外側制作至少兩層鐵鎳合金復合鍍層，其中電鍍溶液各組分為：硫酸鎳，硫酸亞鐵，檸檬酸鈉30 g/L，氯化鈉25 g/L，硼酸40 g/L，十二烷基硫酸鈉0.2 g/L，糖精3 g/L，1,4-丁炔二醇0.3~0.5 g/L，苯亞磺酸鈉0.3~0.5 g/L，電鍍溶液中，當鎳鹽：鐵鹽=6:1，pH值在3-3.5，溫度54-58℃，陰極電流密度為3A/dm²，所獲得的鎳鐵合金鍍層成分主要為Fe₃₄Ni₆₆，鍍層中Fe與Ni的質量比約為3:7，當鎳鹽與鐵鹽的質量比為2:1，電鍍溶液pH值在3-3.5，溫度54-58℃，陰極電流密度為3A/dm²，所獲得的鎳鐵合金鍍層中主要成分為Fe₆₄Ni₃₆，鐵與鎳質量百分比約為7:3；

步驟3：在鐵鎳合金復合鍍層外側電鍍鐵鍍層；

步驟4：在鐵鍍層外側鍍Ni層；

步驟5：清洗后，置于真空干燥箱內，加熱干燥，完成去除內應力和除氫處理。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于步驟3中電鍍溶液各組分為：硫酸亞鐵40 g/L，檸檬酸鈉30 g/L，氯化鈉25 g/L，硼酸40 g/L，十二烷基硫酸鈉0.2 g/L，糖精3 g/L，1,4-丁炔二醇0.3~0.5 g/L，苯亞磺酸鈉0.3~0.5 g/L。

7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于所述步驟2中電鍍溶液里還包括氨基磺酸鈷16g/L，從而使所形成的鎳鐵合金鍍層中含有鈷，以匹配電磁屏蔽性能需求。

8.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于步驟5中清洗后，置于200℃的真空干燥箱，4小時后取出，以避免溫度過高鍍層產生變化。