[發明專利]真空開閉閥有效
| 申請號： | 202010250831.X | 申請日： | 2020-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN111981145B | 公開（公告）日： | 2022-08-12 |
| 發明（設計）人： | 河野哲児郎 | 申請（專利權）人： | CKD株式會社 |
| 主分類號： | F16K1/36 | 分類號： | F16K1/36;F16K1/32;F16K27/02;F16K31/122;F16K37/00;F16K11/065;F16K31/06 |
| 代理公司： | 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 桑傳標 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 開閉 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空開閉閥，其配設在真空腔室與真空泵之間，通過閥芯的開閉動作來進行所述真空腔室的排氣，具備控制裝置和控制閥，所述控制裝置與所述真空開閉閥電性連接，并進行指定所述閥芯的開度的開度指示，所述控制閥使所述閥芯動作到與所述開度指示所指定的開度相對應的位置，該真空開閉閥的特征在于，
所述控制閥進行使所述閥芯的位置在規定時間內從第一位置動作到第二位置的開度控制用的所述開度指示是由所述控制裝置指定與所述第一位置與所述第二位置之間的第三位置相對應的開度，之后從與所述第三位置相對應的開度逐漸變動到與所述第二位置相對應的開度。
2.根據權利要求1所述的真空開閉閥，其特征在于，
所述第三位置為所述第一位置與所述第二位置的大致中間位置，
所述逐漸變動是花費所述規定時間的大致一半的時間來進行。
3.根據權利要求1所述的真空開閉閥，其特征在于，
所述逐漸變動是與時間經過成比例地從與所述第三位置相對應的開度逐漸變動到與所述第二位置相對應的開度。
4.根據權利要求2所述的真空開閉閥，其特征在于，
所述逐漸變動是與時間經過成比例地從與所述第三位置相對應的開度逐漸變動到與所述第二位置相對應的開度。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的真空開閉閥，其特征在于，
真空開閉閥用于使用原子層沉積法的半導體制造裝置，與所述真空腔室靠近配設。
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