[發(fā)明專利]用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置以及外延設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010238986.1 | 申請日: | 2020-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN111472046B | 公開(公告)日: | 2021-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張高偉;劉敬彬 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | C30B25/14 | 分類號: | C30B25/14;C30B25/16 |
| 代理公司: | 北京思創(chuàng)畢升專利事務(wù)所 11218 | 代理人: | 孫向民;廉莉莉 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 外延 設(shè)備 裝置 以及 | ||
1.一種用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,包括:進(jìn)氣焊件(1)、基座環(huán)(3)和勻流板(2),所述進(jìn)氣焊件(1)設(shè)于所述基座環(huán)(3)的一側(cè),所述進(jìn)氣焊件(1)朝向所述基座環(huán)(3)的表面上設(shè)有出氣凹槽,所述出氣凹槽的端面(13)上設(shè)有出氣口,所述基座環(huán)(3)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的表面上設(shè)有進(jìn)氣口,所述出氣口與所述進(jìn)氣口對應(yīng)地設(shè)置;
所述勻流板(2)設(shè)在所述出氣凹槽中,其上設(shè)有多個氣體通道,所述基座環(huán)(3)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的表面上還設(shè)置有彈性部件,所述彈性部件用于向所述勻流板(2)施加壓力,使所述勻流板(2)與所述出氣凹槽的端面(13)貼合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述基座環(huán)(3)的所述進(jìn)氣口中設(shè)有凹梁(14),所述彈性部件設(shè)在所述凹梁(14)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的端面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述彈性部件為彈片結(jié)構(gòu)(15),所述彈片結(jié)構(gòu)(15)包括支撐基板(17)和與所述支撐基板(17)連接的能彈性形變的彈片(16)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述支撐基板(17)與所述凹梁(14)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的端面貼合,所述彈片(16)在彈性變形后向所述勻流板(2)施加壓力。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述基座環(huán)(3)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的表面上設(shè)有進(jìn)氣凹槽,所述進(jìn)氣口設(shè)在所述進(jìn)氣凹槽的端面上,所述進(jìn)氣口中設(shè)有凹梁(14),所述凹梁(14)朝向所述進(jìn)氣焊件(1)的端面與所述進(jìn)氣凹槽的端面在同一個平面上,所述彈性部件設(shè)在所述進(jìn)氣凹槽中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述進(jìn)氣凹槽的端面上沿所述進(jìn)氣口的外周設(shè)有環(huán)形槽(19),所述彈性部件設(shè)在所述環(huán)形槽(19)中。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述彈性部件為設(shè)在所述環(huán)形槽(19)中能彈性形變的環(huán)形彈性條(22),所述環(huán)形彈性條(22)的橫截面為圓形、橢圓形或C型;
所述環(huán)形彈性條(22)彈性形變后向所述勻流板(2)施加壓力。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,在向所述勻流板(2)施加壓力時,所述彈片(16)的彈性形變量小于其最大彈性形變量。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,在向所述勻流板(2)施加壓力時,所述環(huán)形彈性條(22)的彈性形變量小于其最大彈性形變量。
10.根據(jù)權(quán)利要求2或5所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置,其特征在于,所述進(jìn)氣口中所述凹梁(14)的兩側(cè)各設(shè)有一進(jìn)氣襯套(9)。
11.一種外延設(shè)備,包括反應(yīng)腔室和根據(jù)權(quán)利要求1-10中任意一項(xiàng)所述的用于外延設(shè)備的進(jìn)氣裝置;
所述進(jìn)氣裝置與所述反應(yīng)腔室連接,用于向反應(yīng)腔室輸送工藝氣體。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司,未經(jīng)北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010238986.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





