[發(fā)明專利]一種確定CVD金剛石晶向的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010230331.X | 申請(qǐng)日: | 2020-03-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111307776A | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙芬霞;劉宏明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖州中芯半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G01N21/17;G01N23/2251 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11616 | 代理人: | 鄧凌云 |
| 地址: | 313000 浙江省湖州市*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 確定 cvd 金剛石 方法 | ||
本發(fā)明涉及金剛石技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種確定CVD金剛石晶向的方法,包括以下方法步驟:步驟1,準(zhǔn)備原料和工具:?jiǎn)紊す馄鳌⒑つ始す馄鳌氩ㄆVD金剛石單晶、掃描電鏡、硅光電探測(cè)器和屏幕,檢查和校正單色激光器、氦氖激光器、掃描電鏡和硅光電探測(cè)器,保證其可以正常使用,檢查半波片和CVD金剛石單晶是否完好;步驟2,數(shù)據(jù)采集:首先將CVD金剛石單晶固定在平臺(tái)上,通過(guò)單色激光器照射,并使其光束處于同一直線上,單色激光器處于常開模式產(chǎn)生的激光照射CVD金剛石單晶。該確定CVD金剛石晶向的方法,可以便于確定晶面在晶體中的空間方位和這晶面的好磨方向,且定向精度能夠滿足生產(chǎn)需要。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金剛石技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種確定CVD金剛石晶向的方法。
背景技術(shù)
由于CVD金剛石中不含任何金屬催化劑,因此它的熱穩(wěn)定性接近天然金剛石。同高溫高壓人工合成聚晶金剛石一樣,CVD金剛石晶粒也呈無(wú)序排列,無(wú)脆性解理面,因此呈現(xiàn)各向同性。
金剛石晶體屬于平面立方晶系,由于每個(gè)晶面上原子排列形式和原子密度的不同以及晶面之間距離的不同,造成天然金剛石晶體的各向異性,金剛石晶體三個(gè)主要晶面為(100)、(110)、(111),各晶面各向異性的程度不同,其中(100)晶面各向異性最嚴(yán)重.金剛石不僅各晶面表現(xiàn)的物理機(jī)械性能不同、其制造難易程度和使用壽命都不相同。且同一晶面不同方向的耐磨性也不同。因此,在制造道具時(shí),如果晶向選擇不當(dāng),即使晶面選擇正確,刃磨效率也會(huì)大大降低,所以在刃磨過(guò)程中要選擇晶面的易磨方向,因此,金剛石刀具制造前,對(duì)金剛石天然晶體的準(zhǔn)確定向,是臺(tái)理選擇晶面的基礎(chǔ)技術(shù),是制造性能優(yōu)良刀具的必要條件。但是,現(xiàn)有的CVD金剛石晶向的方法操作復(fù)雜,不便確定晶面在晶體中的空間方位和這晶面的好磨方向,且定向精度無(wú)法滿足生產(chǎn)需要。
發(fā)明內(nèi)容
(一)解決的技術(shù)問(wèn)題
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供了一種確定CVD金剛石晶向的方法,具備便于確定晶面在晶體中的空間方位和這晶面的好磨方向,且定向精度能夠滿足生產(chǎn)需要等優(yōu)點(diǎn),解決了現(xiàn)有的CVD金剛石晶向的方法操作復(fù)雜,無(wú)法滿足生產(chǎn)需要的問(wèn)題。
(二)技術(shù)方案
為實(shí)現(xiàn)上述便于確定晶面在晶體中的空間方位和這晶面的好磨方向,定向精度能夠滿足生產(chǎn)需要的目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種確定CVD金剛石晶向的方法,包括以下方法步驟:
步驟1,準(zhǔn)備原料和工具:?jiǎn)紊す馄鳌⒑つ始す馄鳌氩ㄆVD金剛石單晶、掃描電鏡、硅光電探測(cè)器和屏幕,檢查和校正單色激光器、氦氖激光器、掃描電鏡和硅光電探測(cè)器,保證其可以正常使用,檢查半波片和CVD金剛石單晶是否完好;
步驟2,數(shù)據(jù)采集:首先將CVD金剛石單晶固定在平臺(tái)上,通過(guò)單色激光器照射,并使其光束處于同一直線上,單色激光器處于常開模式產(chǎn)生的激光照射CVD金剛石單晶,并用硅光電探測(cè)器緩慢靠近CVD金剛石收集所發(fā)出的熒光,將硅光電探測(cè)器固定在平臺(tái)上,并記錄下此時(shí),硅光電探測(cè)器上的電壓;
步驟3,初步檢測(cè)CVD金剛石單晶晶向:將半波片以其快軸為轉(zhuǎn)動(dòng)中心固定在旋轉(zhuǎn)裝置內(nèi),并置于單色激光器與CVD金剛石單晶之間,沿半波片快軸緩慢轉(zhuǎn)動(dòng)半波片,并記錄下光電探測(cè)器輸出的電壓,與步驟2中記錄的電壓比較,并計(jì)算出輸出的電壓幅度;
步驟4,初步確定CVD金剛石單晶晶向:根據(jù)步驟3中記錄的電壓幅度,當(dāng)幅度達(dá)到最大值時(shí),如果CVD金剛石單晶晶軸與激光器偏振方向關(guān)于半波片快軸對(duì)稱的直線平行,則該CVD金剛石單晶檢測(cè)面為(111)晶面;
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