[發明專利]一種對準系統及光刻機

有效

• 申請號: 202010225390.8
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN113448193B
• 公開（公告）日: 2022-12-13
• 發明（設計）人: 高安
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種對準系統，其特征在于，包括：

對準光束產生單元，用于產生對準光束；

物鏡；所述對準光束經過所述物鏡后照射到對準標記上并產生一次衍射光；所述一次衍射光包括正級一次衍射光和負級一次衍射光；

第一偏振分光棱鏡，位于所述物鏡遠離所述對準標記一側，且位于所述一次衍射光的出射光路上；所述第一偏振分光棱鏡包括入光面、第一出光面、第二出光面和第三出光面；所述入光面與所述第一出光面相對，所述第二出光面和所述第三出光面相對；

第一衍射光回射單元和第二衍射光回射單元，位于所述物鏡遠離所述對準標記一側；所述第一衍射光回射單元位于所述第一出光面，所述第二衍射光回射單元位于所述第二出光面；

干涉信息探測單元，位于所述第三出光面；

所述第一衍射光回射單元用于將從所述第一出光面出射的所述一次衍射光反射至所述第一偏振分光棱鏡；所述第二衍射光回射單元用于將所述第二出光面出射的所述一次衍射光反射至所述第一偏振分光棱鏡；

所述干涉信息探測單元用于獲取所述第三出光面出射的所述正級一次衍射光和所述負級一次衍射光的干涉光強。

2.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于，還包括分光棱鏡，所述分光棱鏡位于所述對準光束產生單元的出射光路上，用于將所述對準光束產生單元產生的所述對準光束反射至所述對準標記。

3.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于，所述第一偏振分光棱鏡包括偏振分光層，所述第一衍射光回射單元與所述第二衍射光回射單元位于所述偏振分光層的不同側。

4.根據權利要求3所述的對準系統，其特征在于，所述第一衍射光回射單元包括第一四分之一波片與第一反射鏡，所述第一四分之一波片位于所述第一反射鏡與所述第一偏振分光棱鏡之間；

所述第二衍射光回射單元包括第二四分之一波片和移位反射單元，所述第二四分之一波片位于所述移位反射單元與所述第一偏振分光棱鏡之間，所述移位反射單元用于將由A位置入射其上光束由B位置出射，所述A位置和所述B位置關于所述移位反射單元的中心線對稱。

5.根據權利要求3所述的對準系統，其特征在于，所述第一衍射光回射單元包括第二四分之一波片和移位反射單元，所述第二四分之一波片位于所述移位反射單元與所述第一偏振分光棱鏡之間，所述移位反射單元用于將由A位置入射其上光束由B位置出射，所述A位置和所述B位置關于所述移位反射單元的中心線對稱；

所述第二衍射光回射單元包括第一四分之一波片與第一反射鏡，所述第一四分之一波片位于所述第一反射鏡與所述第一偏振分光棱鏡之間。

6.根據權利要求1所述的對準系統，其特征在于，所述第一偏振分光棱鏡包括偏振分光層，所述第一衍射光回射單元與所述第二衍射光回射單元位于所述偏振分光層的同一側。

7.根據權利要求6所述的對準系統，其特征在于，所述第一衍射光回射單元包括第一四分之一波片與第一反射鏡，所述第一四分之一波片位于所述第一反射鏡與所述第一偏振分光棱鏡之間；

所述第二衍射光回射單元包括第二四分之一波片和移位反射單元，所述第二四分之一波片位于所述移位反射單元與所述第一偏振分光棱鏡之間，所述移位反射單元用于將由A位置入射其上光束由B位置出射，所述A位置和所述B位置關于所述移位反射單元的中心線對稱。

8.根據權利要求6所述的對準系統，其特征在于，所述第一衍射光回射單元包括第二四分之一波片和移位反射單元，所述第二四分之一波片位于所述移位反射單元與所述第一偏振分光棱鏡之間，所述移位反射單元用于將由A位置入射其上光束由B位置出射，所述A位置和所述B位置關于所述移位反射單元的中心線對稱；

所述第二衍射光回射單元包括第一四分之一波片與第一反射鏡，所述第一四分之一波片位于所述第一反射鏡與所述第一偏振分光棱鏡之間。

9.根據權利要求4，5，7或者8所述的對準系統，其特征在于，所述移位反射單元包括等腰直角三棱鏡。