[發明專利]一種磁瓦檢測裝置

在審

• 申請號: 202010225163.5
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN111282843A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 孫旭;錢昊;劉勇;陳宏偉;李文浩;韋文波;李維
• 申請（專利權）人: 合肥市雅視智能科技有限公司
• 主分類號: B07C5/10
• 分類號: B07C5/10;B07C5/34;B07C5/342;B07C5/02;B07C5/36;G01N21/89;G01B11/24
• 代理公司: 合肥市上嘉專利代理事務所(普通合伙) 34125
• 代理人: 葉洋軍

本發明公開了一種磁瓦檢測裝置，包括沿磁瓦傳送方向依次布置有進料傳送帶、第一導板機構、第一檢測盤、第二導板機構、翻轉機構、第三導板機構、第二檢測盤，還包括：合格品傳送機構，位于第一和第二檢測盤之間且靠近第二檢測盤的一側，與第二檢測盤的盤面落差在設定范圍內，用于接收由第二檢測盤的吹送機構所吹落的合格品；以及瑕疵品傳送機構，位于第二檢測盤的盤面下部，其起始端與至少一滑道銜接，用于接收由第一檢測盤的第一剔除機構和由第二檢測盤的第二剔除機構所剔除的瑕疵品/未檢品。本發明實現了對不合格物料的分流，能夠適應更快的分揀速度，物料通過性更好，杜絕混料、便于設備安裝和維護，同時兩檢測盤的盤面利用率也伴隨提升。

技術領域

本發明涉及磁瓦表面缺陷和尺寸檢測領域，尤其涉及一種磁瓦檢測裝置。

背景技術

由鐵氧體磁性材料、銣鐵硼磁性材料等磁性材料制得的磁瓦在生產加工過程中可能存在缺陷，例如裂紋、掉塊、雜質、打楞(打印)、氣孔等，需要對每塊磁瓦進行檢查。

目前普遍采用人工目檢方式，由于人工目檢勞動強度大，分揀效率低，漏檢率高，針對磁瓦表面缺陷檢測，趨向于采用機器視覺方法進行檢測。

為滿足磁瓦的機器視覺檢測的商業需求，本申請人提供了一種磁瓦檢測裝置(CN110639823A)，如圖16所示，其包括進料傳送帶10’、第一導板機構20’、第二導板機構40’、第三導板機構60’、第一檢測盤30’和第二檢測盤70’、翻轉機構50’、以及集料傳送機構80’，其中，第一檢測盤30’和第二檢測盤70’上分別設置有一組檢測機構，該翻轉機構50’包括上層傳送帶510’、下層傳送帶520’和翻轉導引結構530’，用于磁瓦置放姿態的翻轉。

磁瓦在所述第一檢測盤30’上為正面朝上的置放姿態，在第二檢測盤70’上為背面朝上的第二置放姿態，且磁瓦在所述第一檢測盤、翻轉機構和第二檢測盤上的形位取向與其傳送的速度/線速度方向保持一致。

上述磁瓦檢測裝置解決了磁瓦在傳送檢測過程中姿態穩定的問題，實現磁瓦的連續順暢傳輸，進而滿足磁瓦的機器視覺檢測的商業需求。

隨著新能源電機技術的發展，衍生了較多種類和尺寸規格的磁瓦，如此各種磁瓦的檢測項目不相同，同時磁瓦檢測速率要求也不一致，如此需要磁瓦檢測裝置具有較好的通用性。現有的磁瓦檢測裝置均是針對特定種類和規格的磁瓦而開發的，在通用性上有待進一步提高。

發明內容

本發明的目的在于提供一種磁瓦檢測裝置，以提高磁瓦檢測裝置的通用性。

為此，本發明提供了一種磁瓦檢測裝置，包括沿磁瓦傳送方向依次布置有進料傳送帶、第一導板機構、第一檢測盤、第二導板機構、翻轉機構、第三導板機構、以及第二檢測盤，還包括：合格品傳送機構，位于第一檢測盤和第二檢測盤二者之間且靠近第二檢測盤的一側，與所述第二檢測盤的盤面落差在設定范圍內，用于接收由所述第二檢測盤的吹送機構所吹落的合格品；以及瑕疵品傳送機構，位于第二檢測盤的盤面下部，其起始端與至少一滑道的下端口銜接，用于接收由第一檢測盤的第一剔除機構和由所述第二檢測盤的第二剔除機構二者所剔除的瑕疵品或未檢品。

進一步地，上述合格品出料機構的傳送帶和瑕疵品出料機構的傳送帶二者相互垂直布置，且二者的出料口相互遠離。

進一步地，上述視覺檢測機構包括光源、相機和鏡頭，用于對磁瓦進行全方位視覺檢測。

進一步地，上述吹送機構和第三導板機構二者在所述第二檢測盤上的圓周位置間隔小于1/4圓周盤面。

進一步地，上述瑕疵品出料機構包括傳送帶、擋料槽和在所述擋料槽中設置的防撞短隔板，所述防撞短隔板用于將所述擋料槽沿寬度方向分為兩個物料隔道。

進一步地，上述滑道上敷設有緩沖防撞層。

進一步地，上述傳送帶的起始端設有端口罩，其中，所述端口罩與滑道的下端口銜接。