[發明專利]一種耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物

有效

• 申請號: 202010225109.0
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN111308860B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 王安棟;于凱;孫遜運;騰立
• 申請（專利權）人: 濰坊星泰克微電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/038
• 分類號: G03F7/038;G03F7/004
• 代理公司: 北京超凡宏宇知識產權代理有限公司 11463
• 代理人: 余菲

1.一種耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物，其特征在于：包括：主體樹脂、產酸劑、交聯劑和溶劑；其中以所述光刻膠的總固體為基準算，所述主體樹脂的量占總固體量的10-50%，所述產酸劑的量占總固體量的10-30%，所述交聯劑的量占總固體量的0.4-5%，所述溶劑的量占總固體量的10-55%，所述主體樹脂為酚醛樹脂，所述酚醛樹脂的分子量為1000-10000。

2.根據權利要求1所述的耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物，其特征在于：所述交聯劑為三聚氰胺、三聚氰酸衍生物、三聚氰胺磷酸鹽、三聚氰胺衍生物改性聚氨酯、苯代三聚氰胺中的一種或兩種以上的混合物。

3.根據權利要求1所述的耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物，其特征在于：所述產酸劑為重氮鹽、硫鎓鹽、碘鎓鹽、磷酸鹽、三嗪類、磺酸酯、六氟銻酸鹽中的一種或兩種以上的混合物。

4.根據權利要求1所述的耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物，其特征在于：所述溶劑為丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇中的一種或兩種以上的混合物。

5.一種如權利要求1-4所述的耐強酸腐蝕的負性光刻膠組合物的光刻工藝，其特征在于：包括以下步驟：

（1）將所述主體樹脂、產酸劑、交聯劑和溶劑按比例混合，充分溶解后，用0.2微米孔徑的濾膜過濾，即得到光刻膠溶液；

（2）在經處理的基片上旋涂由上述組分配制的光刻膠，用熱板預烘（PAB），調節轉速使干燥后的膜厚為一定厚度，透過掩膜版，通過曝光機i線曝光后，記錄曝光計量；

（3）在一定溫度的烘箱中進行30min中烘，用2.38wt%TMAH進行浸泡顯影90s后，采用去離子水清洗后用烘箱后烘堅膜，即完成光刻工藝，得到與掩膜版遮光區互補的圖形。