[發(fā)明專利]一種氧化鋯陶瓷及其制備方法和應(yīng)用

有效

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• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號(hào): CN113443911B
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳戈;林信平;唐威
• 申請（專利權(quán)）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號(hào): C04B35/48
• 分類號(hào): C04B35/48;C04B35/622
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氧化鋯陶瓷，其特征在于，所述氧化鋯陶瓷以元素計(jì)包含：Zr、Ti、Y和Ni，以及Nb和/或Ta，且所述氧化鋯陶瓷的物相包含：四方相氧化鋯、氮化鈦、碳化鈦和單質(zhì)鎳；其中，所述氧化鋯陶瓷以元素計(jì)包含：38.5-57.1wt%的Zr、10-31wt%的Ti、1.5-4.4wt%的Y、0.07-2.8wt%的Nb和/或Ta、1-7wt%的Ni；所述氧化鋯陶瓷的物相包含：60-80wt%的四方相氧化鋯、17-30wt%的氮化鈦、2-15wt%的碳化鈦、1-7wt%的單質(zhì)鎳，所述碳化鈦與所述氮化鈦的總含量為25-38wt%，所述碳化鈦與所述氮化鈦的質(zhì)量比值為：(1:4)-(2:3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯陶瓷，其特征在于，所述氧化鋯陶瓷以元素計(jì)包含：42.5-52.8wt%的Zr、15.4-26.4wt%的Ti、1.7-4wt%的Y、0.7-2.1wt%的Nb和/或Ta、2-5wt%的Ni；所述氧化鋯陶瓷的物相包含：65-75wt%的四方相氧化鋯、18-25wt%的氮化鈦、5-13wt%的碳化鈦、2-5wt%的單質(zhì)鎳。

3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任意一項(xiàng)所述的氧化鋯陶瓷，其特征在于，所述氧化鋯陶瓷的L值為44-47，a值為0.1-0.3，b值為0.5-0.8；所述氧化鋯陶瓷的電阻率小于100Ωcm，致密度大于99%、韌性大于6.0MPam^0.5、落錘高度大于等于23cm；其中，L值、a值和b值基于色度（Lab）。

4.一種氧化鋯陶瓷的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

S1、將含氧化釔的氧化鋯、氮化鈦、碳化鈦、鎳，以及五氧化二鈮和/或五氧化二鉭的粉體，與分散劑、粘結(jié)劑混合，形成漿料；

S2、將所述漿料進(jìn)行干燥、成型，然后在真空或惰性氣體中燒結(jié)，得到氧化鋯陶瓷；

其中，基于所述粉體的總量，氮化鈦的含量為17-30wt%、碳化鈦的含量為2-15wt%、鎳的含量為1-7wt%、五氧化二鈮和/或五氧化二鉭的含量為0.1-4 wt%、含氧化釔的氧化鋯的含量為56-80wt%，且所述氧化鋯含有2-4mol%的氧化釔，所述碳化鈦與所述氮化鈦的總含量為25-38wt%，所述碳化鈦與所述氮化鈦的質(zhì)量比值為：(1:4)-(2:3)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，基于所述粉體的總量，氮化鈦的含量為18-25wt%、碳化鈦的含量為5-13wt%、鎳的含量為2-5wt%、五氧化二鈮和/或五氧化二鉭的含量為1-3wt%、含氧化釔的氧化鋯的含量為61-75wt%，且所述氧化鋯含有2-4mol%的氧化釔。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中，燒結(jié)溫度為1400-1600℃，燒結(jié)時(shí)間為1-3h。

7.一種由權(quán)利要求4-6中的任意一項(xiàng)所述的制備方法制得的氧化鋯陶瓷。

8.權(quán)利要求1-2和4-6中任意一項(xiàng)所述的氧化鋯陶瓷在制備電子產(chǎn)品外殼的應(yīng)用。