[發(fā)明專利]陣列基板、陣列基板的制備方法及顯示面板

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010222787.1
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN111403624A
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡文斌;胡云波;喻建兵
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括：

基板，所述基板包括顯示區(qū)和攝像頭區(qū)，所述攝像區(qū)內(nèi)具有透光區(qū)；

發(fā)光功能層，設(shè)置在所述基板的顯示區(qū)；

阻攔壩，設(shè)置在所述基板的攝像區(qū)，所述阻攔壩環(huán)繞所述透光區(qū)設(shè)置，所述阻攔壩上開設(shè)有連通所述阻攔壩內(nèi)側(cè)和外側(cè)的開口。

2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述開口的數(shù)量為多個，且多個開口環(huán)繞所述透光區(qū)分布。

3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板，其特征在于，多個開口環(huán)繞所述透光區(qū)均勻分布。

4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述開口的寬度與所述阻攔壩周長的小于或等于1/16。

5.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，在所述基板的攝像區(qū)開設(shè)有第一溝槽，所述第一溝槽位于所述阻攔壩與所述透光區(qū)之間，所述第一溝槽環(huán)繞所述透光區(qū)設(shè)置。

6.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述第一溝槽的數(shù)量為多個，多個第一溝槽沿所述透光區(qū)至所述阻攔壩的方向依次分布。

7.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，在所述基板的攝像區(qū)開設(shè)有第二溝槽，所述第二溝槽環(huán)繞所述阻攔壩設(shè)置。

8.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述發(fā)光功能層包括依次設(shè)置在所述基板上的薄膜晶體管層、陽極層、有機電致發(fā)光層和陰極層。

9.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基板，所述基板包括顯示區(qū)和攝像頭區(qū)，所述攝像區(qū)內(nèi)具有透光區(qū)；

在所述基板的顯示區(qū)設(shè)置發(fā)光功能層；

在所述基板的攝像區(qū)環(huán)繞所述透光區(qū)設(shè)置具有開口的阻攔壩，所述開口連通所述阻攔壩內(nèi)側(cè)和外側(cè)。

10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權(quán)利要求1至8中任意一項所述的陣列基板。