[發明專利]一種應用于內層板的曝光機及對位系統的實時監測方法

有效

• 申請號: 202010219431.2
• 申請日: 2020-03-25
• 公開（公告）號: CN111273525B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 張雷
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種應用于內層板的曝光機的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述曝光機包括可移動的基板臺面和對位系統，所述對位系統包括朝向基板臺面設置的對位機構和對內層板標記的標記機構，所述標記機構包括至少兩個標記裝置，所述標記裝置分別位于所述基板臺面的相對側，所述標記裝置在平行于相對側的方向上具有間隔，對位機構抓取位于基板臺面相對側的標記裝置的位置信息，獲得兩個相對側標記裝置之間的第一長度值，所述第一長度值為參考值，在曝光機的對位操作中，根據對位機構抓取所述兩個相對的標記裝置在內層板標記的標記點的位置信息，獲得兩個標記點之間的第二長度值，計算第二長度和參考值的比較值，根據比較值判斷所述對位系統的狀態。

2.根據權利要求1所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述比較值在誤差范圍內，繼續后續對位操作，所述比較值在誤差范圍外，修正對位系統。

3.根據權利要求2所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述誤差范圍根據所述曝光機的對準精度設置。

4.根據權利要求1所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述標記裝置位于所述基板臺面的對角。

5.根據權利要求1所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述基板臺面一側設置一個標記裝置，另一側設置至少兩個標記裝置。

6.根據權利要求1所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述基板臺面的兩側均設置至少兩個標記裝置。

7.根據權利要求6所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述標記裝置平行于相對側的方向上位置不同。

8.根據權利要求1所述的對位系統實時監測方法，其特征在于：所述標記裝置固定設置于所述基板臺面或者所述標記裝置設置于所述基板臺面下方，基板臺面對應設置有透光孔。