[發明專利]用于夾雜物分析的方法和系統在審
| 申請號： | 202010218468.3 | 申請日： | 2020-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN111829992A | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發明（設計）人： | J-M.博倫;C.G.范比克 | 申請（專利權）人： | FEI公司 |
| 主分類號： | G01N21/63 | 分類號： | G01N21/63;G01N21/67;G01N21/72;G01N23/04;G01N23/2252;G01N23/2251;G01N23/2206 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 張凌苗;申屠偉進 |
| 地址： | 美國俄*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 夾雜 分析 方法 系統 | ||
1.一種用于分析樣品夾雜物的方法，其包含：
基于使用光發射光譜（OES）系統和帶能量色散X射線光譜法的帶電粒子顯微鏡（CPM/EDX）系統兩者確定的第一樣品的夾雜物特性生成校正因子，以及由所述校正因子校準的所述OES系統確定不同的第二樣品的夾雜物特性。
2.根據權利要求1所述的方法，其中基于所述第一樣品的夾雜物特性使用所述OES系統和所述CPM/EDX系統兩者生成所述校正因子包括基于使用所述OES系統確定的夾雜物體積數量密度和使用所述CPM/EDX系統確定的夾雜物面積數量密度生成所述校正因子。
3.根據權利要求2所述的方法，其中基于使用所述OES系統確定的所述夾雜物體積數量密度和使用CPM/EDX系統確定的所述夾雜物面積數量密度生成所述校正因子包括將使用所述CPM/EDX系統確定的所述夾雜物面積數量密度轉換為第二夾雜物體積數量密度，以及基于所述第二夾雜物體積數量密度和使用所述CPM/EDX系統確定的所述夾雜物體積數量密度生成所述校正因子。
4.根據權利要求2所述的方法，其中由利用所述校正因子校準的所述OES系統確定所述第二樣品的所述夾雜物特性包括由所述校正因子校準的所述OES系統確定所述第二樣品的夾雜物體積數量密度。
5.根據權利要求2所述的方法，其中由所述校正函數校準所述OES系統包括將所述OES系統的夾雜物體積數量密度輸出與所述校正因子相乘。
6.根據權利要求1所述的方法，其中所述第二樣品的所述夾雜物特性不是使用所述CPM/EDX系統確定的。
7.根據權利要求1所述的方法，其進一步包含基于使用所述CPM/EDX系統確定的所述第一樣品的夾雜物組成來更新所述OES系統的夾雜物類型分類器。
8.根據權利要求1所述的方法，其中由所述校正因子校準所述OES系統包括基于所述校正因子來校準所述OES系統的夾雜物質量密度輸出。
9.根據權利要求1所述的方法，其進一步包含在第一時間點在生產過程的階段獲得所述第一樣品，在其后的第二時間點在生產過程的所述階段獲得所述第二樣品，以及基于所述第二樣品的所述夾雜物特性調整所述生產過程。
10.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一樣品是參考樣品，并且所述方法進一步包含在生產過程的階段獲得所述第二樣品，以及基于所述第二樣品的所述夾雜物特性調整所述生產過程。
11.一種用于分析樣品夾雜物的方法，其包含：
使用光發射光譜（OES）系統生成第一樣品的第一組夾雜物特性；
基于所述第一組夾雜物特性，更新帶能量色散X射線光譜法的帶電粒子顯微鏡（CPM/EDX）系統；
使用更新后的CPM/EDX系統，生成所述第一樣品的第二組夾雜物特性；
基于所述第一組夾雜物特性和所述第二組夾雜物特性，生成校正因子；
利用所述校正因子校準所述OES系統；以及
使用經過校準的OES系統分析不同的第二樣品。
12.根據權利要求11所述的方法，其中所述第一組夾雜物特性包括夾雜物尺寸，并且基于所述第一組夾雜物特性更新所述CPM/EDX系統包括基于所述夾雜物尺寸調整所述CPM/EDX系統的掃描步驟。
13.根據權利要求11所述的方法，其中所述第一組夾雜物特性包括夾雜物類型，并且基于所述第一組夾雜物特性更新所述CPM/EDX系統包括基于所述夾雜物類型調整所述CPM/EDX系統的檢測器的獲取時間。
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