[發(fā)明專利]滑動開關(guān)的開關(guān)位置檢測裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010218438.2 | 申請日: | 2020-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN113447801A | 公開(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 賀川 | 申請(專利權(quán))人: | 法雷奧汽車內(nèi)部控制(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/327 | 分類號: | G01R31/327;G01B7/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 譚華 |
| 地址: | 廣東省深圳市寶安區(qū)福永*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 滑動 開關(guān) 位置 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種滑動開關(guān)的開關(guān)位置檢測裝置,所述滑動開關(guān)包括彈片以及至少兩個開關(guān)位置區(qū)域,且相鄰開關(guān)位置區(qū)域之間存在間隔區(qū)域,所述開關(guān)位置檢測裝置包括:
測量模塊,被配置為輸出用于確定所述滑動開關(guān)的開關(guān)位置的電參數(shù)測量值;
控制器,被配置為:
以預(yù)定采樣頻率從所述測量模塊獲取電參數(shù)測量值;
基于當(dāng)前采樣點之前的預(yù)設(shè)時間段內(nèi)的電參數(shù)測量值序列生成待檢測軌跡,
確定基準(zhǔn)曲線軌跡中與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡;以及
基于所述特定部分軌跡確定開關(guān)位置,
其中,所述基準(zhǔn)曲線軌跡上的每個軌跡點的坐標(biāo)指示:該軌跡點在所述至少兩個開關(guān)位置區(qū)域和間隔區(qū)域上的位置點、以及該位置點處的基準(zhǔn)電參數(shù)測量值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,確定基準(zhǔn)曲線軌跡中與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡包括:
對于所述待檢測軌跡中的每個電參數(shù)測量值,確定所述基準(zhǔn)曲線軌跡中與該電參數(shù)測量值相匹配的至少一個離散軌跡點;
基于分別與所述待檢測軌跡中的每個電參數(shù)測量值相匹配的離散軌跡點,獲得與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,用于所述匹配的算法為隱馬爾科夫模型算法,
其中,對于所述待檢測軌跡中的每個電參數(shù)測量值,確定所述基準(zhǔn)曲線軌跡中與該電參數(shù)測量值相匹配的至少一個離散軌跡點包括:
對于每個電參數(shù)測量值,確定基準(zhǔn)電參數(shù)測量值與該電參數(shù)測量值的偏離在第一閾值范圍內(nèi)的至少一個離散軌跡點,并且
將所述至少一個離散軌跡點對應(yīng)的位置點的集合作為該電參數(shù)測量值的候選位置點集,其中每個候選位置點的發(fā)射概率隨著對應(yīng)的基準(zhǔn)電參數(shù)測量值與該電參數(shù)測量值的偏離增大而減小;
其中,基于分別與所述待檢測軌跡中的每個電參數(shù)測量值相匹配的離散軌跡點,獲得與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡包括:
計算相鄰電參數(shù)測量值的候選位置點集之間的狀態(tài)轉(zhuǎn)移概率矩陣,其中分別屬于兩個相鄰電參數(shù)測量值的候選位置點集的兩個候選位置點的距離越近,該兩個候選位置點的狀態(tài)轉(zhuǎn)移概率越大;以及
基于每個候選位置點集中的每個候選位置點的發(fā)射概率以及相鄰電參數(shù)測量值的候選位置點集之間的狀態(tài)轉(zhuǎn)移概率矩陣,確定與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,基于每個候選位置點集中的每個候選位置點的發(fā)射概率以及相鄰電參數(shù)測量值的候選位置點集之間的狀態(tài)轉(zhuǎn)移概率矩陣,確定與所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡包括:
將所述待檢測軌跡中的第一個電參數(shù)測量值的候選位置點集中的每個候選位置點的發(fā)射概率作為狀態(tài)概率;
對于所述待檢測軌跡中的第i個電參數(shù)測量值,根據(jù)第i-1個電參數(shù)測量值的候選位置集中的每個候選位置點的狀態(tài)概率、第i-1個電參數(shù)測量值的候選位置集到第i個電參數(shù)測量值的候選位置集的狀態(tài)轉(zhuǎn)移概率矩陣、以及第i個電參數(shù)測量值的候選位置集中的每個候選位置點的發(fā)射概率,來確定第i個電參數(shù)測量值的候選位置集中的每個候選位置點的狀態(tài)概率;
基于第N個電參數(shù)測量值的候選位置點集中具有最高狀態(tài)概率的候選位置點,確定所述待檢測軌跡匹配的特定部分軌跡,
其中,i大于等于2,且小于等于N,N為所述待檢測軌跡中的電參數(shù)測量值的總數(shù)量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,基于所述特定部分軌跡確定開關(guān)位置包括:
提取所述特定部分軌跡中在當(dāng)前采樣點獲取的電參數(shù)測量值的對應(yīng)軌跡點,
將該對應(yīng)軌跡點所對應(yīng)的開關(guān)位置區(qū)域所屬的開關(guān)位置確定為當(dāng)前開關(guān)位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,所述控制器還被配置為:
將彈片位于所述至少兩個開關(guān)位置區(qū)域以及間隔區(qū)域上的各位置點時電參數(shù)測量值的理論值作為該位置點的基準(zhǔn)電參數(shù)測量值,以生成基準(zhǔn)曲線軌跡。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的開關(guān)位置檢測裝置,其中,所述控制器還被配置為:
基于所述電參數(shù)測量值序列,更新所述基準(zhǔn)曲線軌跡。
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