[發明專利]發光裝置和投影儀有效
| 申請號: | 202010216358.3 | 申請日: | 2020-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN111755580B | 公開(公告)日: | 2023-08-01 |
| 發明(設計)人: | 西岡大毅;岸野克巳 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社;學校法人上智學院 |
| 主分類號: | H01L33/20 | 分類號: | H01L33/20;H01L33/02;H01L33/06;H01L33/24;H01L33/32;H01L33/00;B82Y40/00;G03B21/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 鄧毅;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 裝置 投影儀 | ||
1.一種發光裝置,該發光裝置具有:
基體;以及
層疊體,其設置于所述基體,具有多個柱狀部,
所述柱狀部具有:
n型的第1半導體層;
p型的第2半導體層;
發光層,其設置在所述第1半導體層與所述第2半導體層之間;以及
第3半導體層,其帶隙比所述發光層的帶隙大,
所述第3半導體層具有:
第1部分,其設置在所述發光層與所述第2半導體層之間;以及
第2部分,其與所述發光層的側面接觸,
所述第2部分的雜質濃度比所述第1部分的雜質濃度低。
2.一種發光裝置,該發光裝置具有:
基體;以及
層疊體,其設置于所述基體,具有多個柱狀部,
所述柱狀部具有:
n型的第1半導體層;
p型的第2半導體層;
發光層,其設置在所述第1半導體層與所述第2半導體層之間;以及
第3半導體層,其帶隙比所述發光層的帶隙大,
所述第3半導體層具有:
第1部分,其設置在所述發光層與所述第2半導體層之間;以及
第2部分,其與所述發光層的側面接觸,
所述柱狀部具有夾著所述發光層的第1引導層和第2引導層,
所述第2引導層設置在所述發光層與所述第2半導體層之間,
所述第1部分設置在所述發光層與所述第2引導層之間。
3.一種發光裝置,該發光裝置具有:
基體;以及
層疊體,其設置于所述基體,具有多個柱狀部,
所述柱狀部具有:
n型的第1半導體層;
p型的第2半導體層;
發光層,其設置在所述第1半導體層與所述第2半導體層之間;以及
第3半導體層,其帶隙比所述發光層的帶隙大,
所述第3半導體層具有:
第1部分,其設置在所述發光層與所述第2半導體層之間;以及
第2部分,其與所述發光層的側面接觸,
所述柱狀部具有夾著所述發光層的第1引導層和第2引導層,
所述第2引導層設置在所述發光層與所述第2半導體層之間,
所述第1部分設置在所述第2引導層與所述第2半導體層之間。
4.根據權利要求1至3中的任一項所述的發光裝置,其中,
所述第3半導體層是p型的半導體層,
所述第3半導體層的雜質濃度比所述第2半導體層的雜質濃度高。
5.根據權利要求1至3中的任一項所述的發光裝置,其中,
所述第2部分的厚度比所述第1部分的厚度小。
6.根據權利要求2至3中的任意一項所述的發光裝置,其中,
所述第2部分的雜質濃度比所述第1部分的雜質濃度低。
7.根據權利要求1至3中的任意一項所述的發光裝置,其中,
所述第3半導體層不與所述第1半導體層接觸。
8.一種投影儀,其具有權利要求1至7中的任意一項所述的發光裝置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于精工愛普生株式會社;學校法人上智學院,未經精工愛普生株式會社;學校法人上智學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010216358.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種天線結構
- 下一篇:動作區域限制方法及機器人控制裝置





