[發(fā)明專利]一種超聲波霧化器的驅(qū)動方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010215942.7 | 申請日: | 2020-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN111438026B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 周霆 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州厚達電子科技有限公司 |
| 主分類號: | B05B17/06 | 分類號: | B05B17/06;B05B12/06;B05B12/08;G05B19/042;F24F11/30;F24F11/46;F24F11/88;F24F13/24 |
| 代理公司: | 廣州市智遠創(chuàng)達專利代理有限公司 44619 | 代理人: | 李麗麗 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市番禺區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 超聲波 霧化器 驅(qū)動 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種超聲波霧化器的驅(qū)動方法,1)霧化器以某一中心頻率F0驅(qū)動霧化片工作;2)在該中心頻率F0的基礎上加16KHZ以上的頻率為中心頻率F1,霧化器再以中心頻率F1再加0KHZ?30KHZ為中心頻率F2,霧化器再以中心頻率F2再加0KHZ?30KHZ為中心頻率F3,霧化器再以中心頻率F3再加0KHZ?30KHZ為中心頻率F4,霧化器再以中心頻率F4再加0KHZ?30KHZ為中心頻率F5;3)霧化器先找到其中心頻率F0并工作一段時間,再以中心頻率F5到中心頻率F1工作一段時間,按此往復工作。如此可以最大限度地提高霧化器的霧化水位深度,降低霧化水柱高度,降低它激電路間隙噴霧時產(chǎn)生的噪聲,減小霧化器的工作電流,均衡不同霧化水位深度霧化量。
技術領域
本發(fā)明涉及超聲波霧化器技術領域,具體涉及一種它激式超聲波發(fā)生器的驅(qū)動方法。
背景技術
超聲波霧化器在許多場合都有應用,由于在超聲波霧化器通過它激電路進行霧量調(diào)節(jié)、霧量控制及水位深度控制,但這些控制目前沒有完善的方法,一般采用間隙噴霧的方法,即噴一段時間,停止噴一段時間。其缺點一是有噪聲,二是隨間隙噴霧的占空比加大,可霧化的水位深度也下降。另外,現(xiàn)在流行不加補水箱,而采用加浮動聚能罩的方法,來補正因為傳統(tǒng)霧化器不同水位霧化量不同的缺陷,但這種方法所涉及的結(jié)構(gòu)復雜,補正效果差,低水位霧化量會減小,有一段低水位無實用的霧化效果。一般的霧化器為了得到較高的霧化水位及較大的霧化量,霧化的水位深度越大(水面離霧化片的距離),霧化器的水柱高度就會越高(離水面的高度),這樣霧化器的水柱就需要較大的成霧空間,從而會加大加濕器的體積。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術存在的缺陷,提供一種可以最大限度地提高霧化器的霧化水位深度,降低霧化水柱高度,降低它激電路間隙噴霧時產(chǎn)生的噪聲,減小霧化器的工作電流,均衡不同霧化水位深度霧化量的超聲波霧化器的驅(qū)動方法。
為解決上述技術問題,本發(fā)明采用如下技術方案:一種超聲波霧化器的驅(qū)動方法,其特征在于:按以下過程實現(xiàn),
1)霧化器通過其驅(qū)動電路以某一中心頻率F0驅(qū)動霧化片工作,此中心頻率F0為霧化器工作的主頻率,其可以使霧化器產(chǎn)生有效霧化量;
2)在該中心頻率F0的基礎上加16KHZ以上的頻率為中心頻率F1,霧化器再以中心頻率F1再加0KHZ-30KHZ為中心頻率F2,霧化器再以中心頻率F2再加0KHZ-30KHZ為中心頻率F3,霧化器再以中心頻率F3再加0KHZ-30KHZ為中心頻率F4,霧化器再以中心頻率F4再加0KHZ-30KHZ為中心頻率F5;
3)霧化器先找到其中心頻率F0并工作一段時間(如10微秒-500毫秒,下同),再以中心頻率F5到中心頻率F1工作一段時間,按此方法來回往復地工作。
霧化器先找到霧化器的中心頻率F0并工作一段時間,或停止噴霧一段時間,再以中心頻率F5到中心頻率F1的任何一個中心頻率或多個中心頻率工作一段時間,按此過程來回往復地工作。
霧化器先找到其中心頻率F0并工作一段時間,或停止噴霧一段時間,再以大于中心頻率F1以上的頻率工作,按此過程來回往復地工作。
霧化器先找到其中心頻率F0并工作一段時間,在此期間霧化器的工作頻率可圍繞中心頻率F0上下波動,同樣霧化器在以中心頻率F1到中心頻率F5的工作期間,其工作頻率可圍繞中心頻率F1到中心頻率F5上下波動。
霧化器先找到其中心頻率F0并工作一段時間,且以中心頻率F0工作的時間大于整個噴霧時間(不含停止噴霧的時間)的20%;霧化器以中心頻率大于F1以上的頻率工作的時間大于整個噴霧時間(不含停止噴霧的時間)的20%。
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