[發明專利]應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置、方法及蝕刻系統

在審

• 申請號: 202010213823.8
• 申請日: 2020-03-24
• 公開（公告）號: CN113447092A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 蘇財鈺;伍凱義;沈佳輝;張嘉修;楊然翔
• 申請（專利權）人: 重慶康佳光電技術研究院有限公司
• 主分類號: G01F15/06
• 分類號: G01F15/06;C30B33/12
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產權代理有限公司 44281
• 代理人: 李發兵

1.一種應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置，其特征在于，包括：

氣體管道、質量流量計、氣體質量流量控制器、服務器和遠程監控平臺；

其中，所述質量流量計及所述氣體質量流量控制器依次設置在所述氣體管道上；

所述質量流量計用于在所述氣體管道通氣后對所述氣體管道內的氣體流量進行監測，并生成含流量參數的監測信號，并向所述服務器發送所述監測信號；

所述氣體質量流量控制器用于在所述質量流量計開啟后，采集流經所述氣體質量流量控制器的流量數據，并將所述流量數據發送至所述服務器；

所述服務器用于接收所述監測信號和所述流量數據，并進行處理，得到處理結果；所述服務器將所述處理結果發送至所述遠程監控平臺；

所述遠程監控平臺用于接收所述處理結果，并輸出監控結果。

2.如權利要求1所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置，其特征在于，所述質量流量計的輸出電壓為0～5V，且所述輸出電壓相對應的流量為0～全流量。

3.如權利要求1所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置，其特征在于，所述質量流量計與所述氣體質量流量控制器間隔0到1米的距離設置在所述氣體管道上。

4.如權利要求1所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置，其特征在于，所述質量流量計的流量監測反饋時間小于1秒。

5.如權利要求1-4任意一項所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置，其特征在于，所述裝置還包括清洗管道，所述清洗管道連接在所述質量流量計與所述氣體質量流量控制器之間的所述氣體管道上。

6.一種應用于蝕刻過程中監測氣體流量的蝕刻系統，其特征在于，包括：如權利要求1-5任一項所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的裝置。

7.一種應用于蝕刻過程中監測氣體流量的方法，其特征在于，包括：

服務器接收質量流量計發送的含流量參數的監測信號以及氣體質量流量控制器發送的流量數據；

所述服務器對所述監測信號和所述流量數據進行處理，得到處理結果；

所述服務器將所述處理結果發送至遠程監控平臺，所述遠程監控平臺根據所述處理結果輸出監控結果。

8.如權利要求7所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的方法，其特征在于，所述服務器對所述監測信號和所述流量數據進行處理，得到處理結果，包括：

所述服務器解析所述監測信號所攜帶的所述流量參數的數據表頭；

所述服務器根據所述數據表頭與所述流量數據生成處理結果。

9.如權利要求8所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的方法，其特征在于，所述服務器根據所述數據表頭與所述流量數據生成處理結果，包括：

所述服務器提取所述數據表頭所攜帶的數據；

所述服務器將所述數據表頭所攜帶的數據與所述流量數據進行類比，得到處理結果。

10.如權利要求7-9任意一項所述的應用于蝕刻過程中監測氣體流量的方法，其特征在于，所述服務器將所述處理結果發送至遠程監控平臺，包括：

所述服務器將所述處理結果進行圖案化，得到圖表數據；

所述服務器將所述圖表數據發送至遠程監控平臺。