[發明專利]一種不留膠的UV減粘保護膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202010212559.6
• 申請日: 2020-03-24
• 公開（公告）號: CN111218225B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 柯躍虎;諸葛鋒;曾慶明
• 申請（專利權）人: 廣東碩成科技有限公司
• 主分類號: C09J7/24
• 分類號: C09J7/24;C09J7/35;C09J7/40;C09J4/06;C09J4/02
• 代理公司: 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙) 31333
• 代理人: 史玉婷

本發明涉及半導體的相關技術領域，更具體地，本發明提供一種不留膠的UV減粘保護膜及其制備方法。本發明的第一方面提供一種UV減粘組合物，其包括以下重量份的原料：15～35份丙烯酸酯單體、10～20份含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物、0.5～3.6份光引發劑以及20～50份溶劑。本發明提供了UV減粘組合物以及含有該UV減粘組合物的UV減粘保護膜材料，通過丙烯酸酯單體與特定含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物體系形成的組合物作為UV減粘層材料，提高UV減粘保護膜在UV照射前的剝離強度以及降低UV減粘保護膜在UV照射后的剝離強度，從而提高準確度的固定以及撿取效率。

技術領域

本發明涉及半導體的相關技術領域，更具體地，本發明提供一種不留膠的UV減粘保護膜及其制備方法。

背景技術

UV減粘保護膜也是UV減粘膠帶，在紫外光(UV光)照射前該膠帶具有較高的粘著力，而通過UV光照射膠帶后可以使膠帶快速失去粘性并且在被貼物體上不會殘膠，實現了加工處理過程中被貼物體的有效固定、轉移等功能。該產品主要用于晶元片、玻璃、LED芯片、半導體等各類電子元器件切割工藝。

目前的UV減粘保護膜一般在存儲約2～4個月后，膠層中的小分子會遷移到膠層表面，雖然后期剝離時經過UV照射后粘合力變小，但膠粘層的小分子會殘留在被貼合物體表面，給被貼合物體造成污染；此外，目前國內制備的UV減粘保護膜UV照射前的剝離強度較低而UV照射后剝離強度較高，不能實現高準確度的固定以及高效的撿取。

發明內容

為解決上述技術問題，本發明的第一方面提供一種UV減粘組合物，包括原料：丙烯酸酯單體、含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物、光引發劑以及溶劑；其中含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物中的活性基團包括異氰酸酯基與羥基。

作為本發明的一種優選技術方案，所述UV減粘組合物包括以下重量份的原料：15～35份丙烯酸酯單體、10～20份含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物、0.5～3.6份光引發劑以及20～50份溶劑。

作為本發明的一種優選技術方案，丙烯酸酯單體選自1,6-己二醇雙丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二縮丙二醇雙丙烯酸酯、三縮丙二醇雙丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸、月桂酸丙烯酸酯、硬酯酸丙烯酸酯、異冰片基丙烯酸酯、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、月桂酸甲基丙烯酸酯、異冰片基甲基丙烯酸酯中的任一種或多種的組合。

作為本發明的一種優選技術方案，所述含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物的制備原料包括含羥基的丙烯酸酯單體與多異氰酸酯。

作為本發明的一種優選技術方案，含羥基丙烯酸酯單體選自烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丙酯、丙烯酸羥丁酯、季戊四醇三丙烯酸酯、6-羥基己基丙烯酸酯、2,3-二羥基丙基丙烯酸酯、2,4-二羥基丙基甲基丙烯酸酯中的任一種或多種的組合；優選為6-羥基己基丙烯酸酯與2,3-二羥基丙基丙烯酸酯。

作為本發明的一種優選技術方案，多異氰酸酯選自三亞甲基二異氰酸脂、四亞甲基二異氰酸脂、1,2－亞丙基二異氰酸脂、2,3－亞丁基二異氰酸脂、1,3－亞丁基二異氰酸脂、十二亞甲基二異氰酸脂中的任一種或多種的組合。

作為本發明的一種優選技術方案，含羥基的丙烯酸酯單體中的羥基與多異氰酸酯中的異氰酸酯基的摩爾比為1：(0.6～0.75)。

作為本發明的一種優選技術方案，還包括熱引發劑；優選地，熱引發劑含量為含有活性反應基團的丙烯酸酯低聚物含量的5～10wt％。

本發明的第二方面提供一種UV減粘保護膜，依次包括基材層、UV減粘層和離型膜層，其中UV減粘層由所述UV減粘組合物制備得到。

本發明的第三方面提供一種所述UV減粘保護膜的制備方法，將UV減粘組合物涂布于基材層表面，預烘后在UV減粘組合物上貼合離型膜層，熟化，得到所述UV減粘膜。