[發明專利]一種晶體材料破碎潔凈預處理裝置及潔凈預處理方法在審
| 申請號: | 202010210868.X | 申請日: | 2020-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN111420779A | 公開(公告)日: | 2020-07-17 |
| 發明(設計)人: | 杜茂松 | 申請(專利權)人: | 自貢佳源爐業有限公司 |
| 主分類號: | B02C19/18 | 分類號: | B02C19/18 |
| 代理公司: | 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214 | 代理人: | 林天成 |
| 地址: | 643000 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 晶體 材料 破碎 潔凈 預處理 裝置 方法 | ||
1.一種晶體材料破碎潔凈預處理裝置,用于材料的破碎預處理,其特征在于,包括氣氛置換部、加熱部和冷爆部;
所述氣氛置換部設置有用于材料進入的進料口;
所述加熱部包括入口端和出口端;
所述氣氛置換部設置于加熱部入口端,用于將材料表面吸附的空氣及進料時由通道進入的空氣抽吸排除并置換為惰性氣體;
所述冷爆部設置在所述加熱部的出口端用于加熱后的晶體材料水冷。
2.根據權利要求1所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述氣氛置換部包括可隔離的置換倉室和前倉室;
所述進料口設置在所述置換倉室的前面,所述前倉室一端連通所述置換倉室,另一端口連通所述加熱部;
進料門可開閉,設置在所述進料口處;
所述置換倉室用于連接真空系統和置換氣體供應管路。
3.根據權利要求2所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述前倉室設置在所述置換倉室的上方,所述置換倉室的底部設置有升降料臺,所述升降料臺具有與所述進料門同一高度的低位狀態,和與所述加熱部同一高度的高位狀態。
4.根據權利要求3所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述前倉室內還設置有用于將材料推入所述加熱部的進爐機構;
所述進爐機構具有朝向所述高位狀態的升降料臺的推料工位。
5.根據權利要求1所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述加熱部包括用于水平運送材料的步進組件;
所述步進組件包括步進架、步進升降機構和水平位移機構;
所述步進升降機構設置在所述步進架的下部;
所述水平位移機構連接所述步進架,用于在每一個步進循環中帶動步進架在所述加熱部內往復移動。
6.根據權利要求5所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述步進架靠近所述步進升降機構的一面設置有第一水平滑動件,所述步進升降機構上設置有與所述第一水平滑動件配合的第二水平滑動件;
所述第一水平滑動件和所述第二水平滑動件配合,導向所述步進架沿所述入口端與所述出口端的連線往復位移。
7.根據權利要求5所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述水平位移機構包括水平伸縮件和鉸接桿;
所述水平伸縮件具有能夠水平伸縮的端頭,所述端頭與所述鉸接桿的一端鉸接設置,所述鉸接桿的另一端與所述步進架的一側鉸接。
8.根據權利要求5所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述加熱部包括加熱爐體,所述步進組件設置于所述加熱爐體的內部,所述加熱爐體的下方還設置有用于所述步進架進入的工作口,
所述工作口處設置有水封機構。
9.根據權利要求8所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述加熱爐體具有非金屬材料形成的內襯;所述步進架包括伸入所述加熱爐體的步進梁,所述步進梁的上方設置有非金屬材料形成的襯墊。
10.根據權利要求1所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述冷爆部包括傾倒機構和冷爆液槽;
所述傾倒機構包括推送頭和可轉動的傾倒臺;
所述加熱部的出口端設置有出料口;
所述傾倒機構設置在所述出料口遠離所述加熱部的一端;所述推送頭朝向所述傾倒臺設置;
所述冷爆液槽設置在所述傾倒臺的下方。
11.根據權利要求10所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述推送頭與后倉門固定連接,所述后倉門用于遮擋密封所述出料口。
12.根據權利要求10所述的晶體材料破碎潔凈預處理裝置,其特征在于,所述冷爆液槽內還設置有提升機,所述提升機的一端伸入所述冷爆液槽的底部,另一端延伸出所述冷爆液槽。
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