[發明專利]一種鋼液霧化盤、霧化制丸設備及霧化制丸方法在審
| 申請號: | 202010198655.X | 申請日: | 2020-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN111318714A | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發明(設計)人: | 王霆;俞瑤希;倪雅匯 | 申請(專利權)人: | 無錫鋒速鋼丸有限公司 |
| 主分類號: | B22F9/08 | 分類號: | B22F9/08 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211 | 代理人: | 張勇 |
| 地址: | 214000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 霧化 設備 方法 | ||
本發明公開了一種鋼液霧化盤、霧化制丸設備及霧化制丸方法,包括同軸設置的上噴盤、下噴盤,所述上噴盤和下噴盤上均設有錐孔,所述上噴盤、下噴盤之間預留有允許氣流經過的氣腔、與氣腔相連的拉瓦爾結構環形縫隙,所述拉瓦爾結構環形縫隙的窄喉位于拉瓦爾結構環形縫隙背離氣腔的一側。氣體通過噴盤的環形縫隙,即拉瓦爾結構;加速并且高速噴出,由于噴出時經過的路徑與上下噴盤的中心軸線之間為夾角設置,又因為氣腔、與氣腔連通的拉瓦爾結構縫隙均為環形,故氣體經過窄喉噴出后形成一個漩渦封閉的氣錐,將流經錐頂的金屬液流擊碎,氣體噴射量大并且均勻,鋼丸收得率高。
技術領域
本發明涉及一種鋼液霧化盤、霧化制丸設備及霧化制丸方法,屬于不銹鋼丸霧化噴盤技術領域。
背景技術
噴盤是用來生產鋼丸的常用部件,包括上噴盤和下噴盤,上噴盤和下噴盤之間留有允許鋼液流經的流道,鋼液從流道中流過時,位于上噴盤和下噴盤之間的間隙中通入氣流,氣流的輸出方向朝向鋼液,將鋼液吹散、冷卻,得到鋼丸。
目前,授權公告號為CN208483226U的中國專利公開了一種不銹鋼丸霧化噴盤,包括下噴盤、上噴盤以及環形墊圈,所述下噴盤中間設有一和上噴盤部分相契合的錐孔,沿下噴盤的內壁設有環形凹槽,所述下噴盤設有兩個與環形凹槽連通的進氣口,進氣口設置成使得沿所述進氣口進入的氣體的方向與下噴盤相切,且進入的氣體沿順時針方向運動,所述下噴盤的下部呈弧形彎曲,所述上噴盤呈漏斗形,將所述上噴盤和下噴盤扣合,所述上噴盤的底部和下噴盤底部之間形成環形氣縫,所述環形墊圈設置在環形氣縫處,所述上噴盤將所述環形凹槽密封形成致密的氣環。
上述結構中,通過進氣口向上噴盤、下噴盤之間的環形氣縫內輸入氣體,氣體從環形氣縫中輸出后,理論上能夠將鋼液吹散形成鋼丸;但實際操作過程中,氣體從環形氣縫中輸出時,氣流的流速與方向均會影響到對鋼液的吹散程度,如果氣流流速不夠快,鋼液尚未完全冷卻之前,都有可能性因為粘結而降低細顆粒鋼丸比例。
發明內容
本發明提供一種鋼液霧化盤,具有能夠噴射出更加均勻的霧化氣體、提高細顆粒鋼丸比例的優勢,所得到的產品不易氧化;技術要點包括同軸設置的上噴盤、下噴盤,所述上噴盤和下噴盤上均設有錐孔,所述上噴盤、下噴盤之間預留有允許氣流經過的氣腔、與氣腔相連的拉瓦爾結構環形縫隙,所述拉瓦爾結構環形縫隙的窄喉位于拉瓦爾結構環形縫隙背離氣腔的一側。
本發明的一種實施方式中,包括同軸設置的上噴盤、下噴盤,所述上噴盤和下噴盤上均設有錐孔,所述上噴盤、下噴盤之間預留有允許氣流經過的氣腔、與氣腔相連的拉瓦爾結構環形縫隙,所述拉瓦爾結構環形縫隙的窄喉位于拉瓦爾結構環形縫隙背離氣腔的一側,所述窄喉中經過的氣流路徑與上噴盤、下噴盤的中心軸線之間夾角設置。
本發明的一種實施方式中,包括同軸設置的上噴盤、下噴盤,所述上噴盤和下噴盤上均設有錐孔,所述上噴盤、下噴盤之間預留有允許氣流經過的氣腔、與氣腔相連的拉瓦爾結構環形縫隙,所述拉瓦爾結構環形縫隙的窄喉位于拉瓦爾結構環形縫隙背離氣腔的一側,所述窄喉中經過的氣流路徑與上噴盤、下噴盤的中心軸線之間夾角設置,所述窄喉中經過的氣流路徑與上噴盤、下噴盤的中心軸線之間的夾角取值范圍小于或等于45°。
本發明的一種實施方式中,包括同軸設置的上噴盤、下噴盤,所述上噴盤和下噴盤上均設有錐孔,所述上噴盤、下噴盤之間預留有允許氣流經過的氣腔、與氣腔相連的拉瓦爾結構環形縫隙,所述拉瓦爾結構環形縫隙的窄喉位于拉瓦爾結構環形縫隙背離氣腔的一側,所述窄喉中經過的氣流路徑與上噴盤、下噴盤的中心軸線之間夾角設置,所述窄喉中經過的氣流路徑與上噴盤、下噴盤的中心軸線之間的夾角取值范圍小于或等于45°,所述上噴盤的錐孔內壁上設有若干補氣孔,所述補氣孔貫穿上噴盤,與拉瓦爾結構環形縫隙連通。
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