[發明專利]帶電粒子束治療裝置有效
| 申請號： | 202010198654.5 | 申請日： | 2020-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN111714787B | 公開（公告）日： | 2022-12-20 |
| 發明（設計）人： | 上口長昭 | 申請（專利權）人： | 住友重機械工業株式會社 |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 帶電 粒子束 治療 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種帶電粒子束治療裝置，其從照射部通過掃描方式對被照射體照射帶電粒子束，
所述照射部具備掃描所述帶電粒子束的掃描電磁鐵，
并且通過旋轉支架能夠圍繞所述被照射體旋轉，
并且以與所述旋轉支架的中心線正交且通過所述中心線的基軸為基準照射所述帶電粒子束，
在不使所述掃描電磁鐵發揮作用時，從所述照射部的前端部照射的所述帶電粒子束相對于所述基軸向一個方向傾斜，所述傾斜的角度大于所述傾斜的方向上的邊界位置相對于所述基軸的角度。
2.根據權利要求1所述的帶電粒子束治療裝置，其具備：
傳輸部，向所述照射部傳輸所述帶電粒子束，
所述傳輸部在規定的平面內改變所述帶電粒子束的軌道，向所述照射部入射所述帶電粒子束，
在不使所述掃描電磁鐵發揮作用時，從所述照射部的前端部照射的所述帶電粒子束至少在從與所述平面正交的方向觀察時相對于所述基軸傾斜。
3.根據權利要求1或2所述的帶電粒子束治療裝置，其具備：
偏轉電磁鐵，改變所述帶電粒子束的軌道，
所述掃描電磁鐵配置于所述偏轉電磁鐵的下游側。
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