[發明專利]一種頁巖氣地層巖性識別方法、系統、存儲介質、終端

有效

• 申請號: 202010196865.5
• 申請日: 2020-03-19
• 公開（公告）號: CN111425190B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 肖佃師;盧雙舫;陳方文;黃文彪;李吉君;陳紅麗
• 申請（專利權）人: 中國石油大學（華東）
• 主分類號: E21B49/00
• 分類號: E21B49/00;E21B25/00
• 代理公司: 重慶市信立達專利代理事務所(普通合伙) 50230
• 代理人: 陳炳萍

1.一種頁巖氣地層巖性識別方法，其特征在于，所述頁巖氣地層巖性識別方法包括以下步驟：

第一步，確定生物成因硅質發育的判別標準；

第二步，頁巖巖性劃分；

第三步，測井曲線響應分析，建立硅質頁巖和泥質灰巖判別標準；

第四步，聯合GR和FDC建立其他類型頁巖判別標準；

第五步，頁巖巖性測井曲線判別；

所述第一步中，生物成因硅質發育的判別標準具體為：對頁巖井巖心進行詳細采樣，進行全巖礦物分析、有機碳含量、主微量元素檢測，并制作鏡下薄片；以泥巖硅鋁比3.11:1為基準，計算過剩硅含量，根據過剩硅含量與TOC間關系，確定生物成因硅質主導頁巖的判別標準；

所述第三步中，建立硅質頁巖和泥質灰巖的判別標準具體為：根據測試結果確定已有巖心的巖性，提取取心點對應測井曲線響應值，中子CNL、密度DEN、電阻率RT、自然伽馬GR，分析不同巖性頁巖的測井曲線響應差異；與其他巖性相比，泥質灰巖具有相對高DEN、低CNL和低GR特征，硅質頁巖具有相對低DEN、低CNL和高GR特征，可聯合DEN、CNL和GR曲線建立泥質灰巖和硅質頁巖的曲線判別標準；

所述第四步中，聯合DEN-CNL標準化后幅度差和GR建立巖性判別標準具體為：首先建立CNL-DEN交會圖，根據硅質頁巖和混合質頁巖數據點擬合趨勢線f(x)，確定CNL曲線的最小值CNL_min和最大值CNL_max，根據趨勢線確定對應DEN的最小值DEN_min和最大值DEN_max，即DEN_min＝f(CNL_min)，DEN_max＝f(CNL_max)，然后利用FDC＝(DEN-DEN_min)/(DEN_max-DEN_min)-(CNL-CNL_min)/(CNL_max-CNL_min)計算CNL-DEN標準化后幅度差；建立幅度差FDC和GR交會圖版，確定不同類型頁巖的判別標準，粘土質頁巖對應較低GR、負的FDC，粉砂質泥巖具有較低GR、正的FDC，而混合質頁巖對應中等GR、位于零FDC附近，硅質頁巖對應最高GR、位于零FDC附近。

2.如權利要求1所述的頁巖氣地層巖性識別方法，其特征在于，所述第二步中，頁巖巖性劃分具體為：考慮巖石粒度、礦物組成、硅質來源，建立頁巖巖性大類劃分標準；根據粉砂級顆粒含量，將頁巖劃分為粉砂質頁巖和泥頁巖，對于泥頁巖，再根據粘土礦物、碳酸鹽礦物含量劃分出粘土質頁巖和泥質灰巖，根據第一步中生物成因硅質主導頁巖判別標準，將剩余泥頁巖劃分為硅質頁巖和混合質頁巖。

3.如權利要求1所述的頁巖氣地層巖性識別方法，其特征在于，所述第五步中，頁巖巖性測井曲線判別及應用具體為：根據不同巖性頁巖曲線判別標準，通過CNL、DEN、GR曲線可識別出不同巖性頁巖的垂向分布，認清頁巖氣地層巖性垂向變化規律和甜點層段的分布。

4.一種接收用戶輸入程序存儲介質，所存儲的計算機程序使電子設備執行權利要求1～3任意一項所述頁巖氣地層巖性識別方法的步驟：

第一步，確定生物成因硅質發育的判別標準；

第二步，頁巖巖性劃分；

第三步，測井曲線響應分析，建立硅質頁巖和泥質灰巖判別標準；

第四步，聯合GR和FDC建立其他類型頁巖判別標準；

第五步，頁巖巖性測井曲線判別及應用。

5.一種實施權利要求1～3任意一項所述頁巖氣地層巖性識別方法的頁巖氣地層巖性識別系統，其特征在于，所述頁巖氣地層巖性識別系統包括：

第一判別標準模塊，用于確定生物成因硅質發育的判別標準；

巖性劃分模塊，用于頁巖巖性劃分；

第二判別標準模塊，用于測井曲線響應分析，建立硅質頁巖和泥質灰巖判別標準；

第三判別標準模塊，用于聯合GR和FDC建立其他類型頁巖判別標準；

曲線判別模塊，用于實現頁巖巖性測井曲線判別及應用。