[發(fā)明專利]一種用于探測非可見光的圖像傳感器及成像裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010196274.8
• 申請日: 2020-03-19
• 公開（公告）號: CN111246137B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李琛
• 申請（專利權(quán)）人: 上海集成電路研發(fā)中心有限公司;成都微光集電科技有限公司
• 主分類號: H04N5/374
• 分類號: H04N5/374;H04N5/369;H04N5/325
• 代理公司: 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;馬盼

1.一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，包括芯片A、芯片B和射線熒光層，所述芯片A包括可見光二極管A、阻擋層A和介質(zhì)層A，且所述可見光二極管A和阻擋層A均位于介質(zhì)層A中；所述芯片B包括可見光二極管B、阻擋層B和介質(zhì)層B，且所述可見光二極管B和阻擋層B均位于介質(zhì)層B中；所述阻擋層A和阻擋層B用于濾去可見光；所述可見光二極管A和可見光二極管B分別位于所述射線熒光層的兩側(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述射線熒光層在水平方向上的面積等于所述可見光二極管A和可見光二極管B在水平方向上的面積，且所述可見光二極管A、射線熒光層和可見光二極管B在豎直方向上重合。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述阻擋層A和阻擋層B在水平方向上的面積等于射線熒光層在水平方向上的面積，且所述阻擋層A、射線熒光層和阻擋層B在豎直方向上重合。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述阻擋層A在水平方向上的面積等于介質(zhì)層A在水平方向上的面積，所述阻擋層B在水平方向上的面積等于介質(zhì)層B在水平方向上的面積。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述芯片A還包括濾光片A，所述芯片B還包括濾光片B，所述濾光片A和濾光片B用于濾去無用的非可見光；所述濾光片A和濾光片B在水平方向上的面積等于射線熒光層在水平方向上的面積，且所述濾光片A、射線熒光層和濾光片B在豎直方向上重合。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述芯片A還包括濾光片A，所述芯片B還包括濾光片B，所述濾光片A和濾光片B用于濾去無用的非可見光；所述濾光片A在水平方向上的面積等于介質(zhì)層A在水平方向上的面積，所述濾光片B在水平方向上的面積等于介質(zhì)層B在水平方向上的面積。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于探測非可見光的圖像傳感器，其特征在于，所述射線熒光層為X射線熒光層。

8.一種X射線圖像傳感器的成像裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求7所述的用于探測非可見光的圖像傳感器，且以及制冷設(shè)備、光纖錐度腔體和X射線輸入?yún)^(qū)，其中，所述X射線輸入?yún)^(qū)位于所述光纖錐度腔體的入口處，所述制冷設(shè)備位于所述圖像傳感器和光纖錐度腔體的出口之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種X射線圖像傳感器成像裝置，其特征在于，所述光纖錐度腔體為圓柱狀。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種X射線圖像傳感器成像裝置，其特征在于，所述光纖錐度腔體為圓錐狀，且所述光纖錐度腔體入口處的截面面積大于出口處的截面面積。