[發明專利]進氣口清理裝置及采用該清理裝置的廢氣處理裝置

有效

• 申請號: 202010196080.8
• 申請日: 2020-03-19
• 公開（公告）號: CN111420500B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 王偉
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: B01D49/00
• 分類號: B01D49/00;B01D53/00;B08B15/04;B08B1/00;F23G7/06
• 代理公司: 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;高翠花

本發明提供一種進氣口清理裝置及采用該清理裝置的廢氣處理裝置，進氣口清理裝置包括：缸體，具有容納腔；滑桿，包括相對設置的第一端及第二端，第一端穿過缸體的端部延伸至容納腔內，第二端位于容納腔之外；保護套設置在缸體外部，且套設在滑桿上，保護套包括相對設置的固定端及移動端，固定端與缸體的端部抵接，移動端與滑桿的第二端連接，保護套為可伸縮結構；清理件與滑桿的第二端連接；在滑桿的延伸方向上，滑桿能夠相對于容納腔滑動，進而帶動清理件移動，以清理進氣口。本發明的優點在于，將所述滑桿與外界環境隔離，從而避免外界的高溫及顆粒物影響所述滑桿的滑動，降低了所述進氣口清理裝置的耗損。

技術領域

本發明涉及廢氣處理領域，尤其涉及一種進氣口清理裝置及采用該清理裝置的廢氣處理裝置。

背景技術

在目前半導體生產制造的過程中，均會產生具毒性的工業廢氣，這些工業廢氣需要進行處理后才能排放到大氣環境中，否則會對環境造成污染與公害。人們對環境保護越來越重視，如何將工業廢氣妥善處理，避免其污染環境成為工業生產中至關重要的一環。

但是，現有的廢氣處理裝置的廢氣處理效率較低，不能滿足需求。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是，提供一種進氣口清理裝置及采用該清理裝置的廢氣處理裝置，其能夠降低了所述進氣口清理裝置的耗損。

為了解決上述問題，本發明提供了一種進氣口清理裝置，其包括：缸體，具有一容納腔；滑桿，包括相對設置的第一端及第二端，所述第一端穿過所述缸體的端部延伸至所述容納腔內，所述第二端位于所述容納腔之外；保護套，設置在所述缸體外部，且套設在所述滑桿上，所述保護套包括相對設置的固定端及移動端，所述固定端與所述缸體的端部抵接，所述移動端與所述滑桿的第二端連接，所述保護套為可伸縮結構；清理件，與所述滑桿的第二端連接；在所述滑桿的延伸方向上，所述滑桿能夠相對于所述容納腔滑動，進而帶動所述清理件移動，以清理進氣口。

進一步，所述滑桿的第一端設置有活塞，所述活塞將所述容納腔分為第一腔及第二腔，向所述第一腔及所述第二腔內充入氣體，以推動所述活塞移動，進而帶動所述滑桿相對于所述容納腔滑動。

進一步，在所述第一腔及所述第二腔的側壁均設置有開口，以供氣體進出。

進一步，所述保護套側壁為褶皺結構，以使所述保護套能夠伸縮。

進一步，所述保護套為波紋管。

進一步，所述清理件為沿所述滑桿滑動方向延伸的螺旋構型。

進一步，所述清理件背離所述滑桿的一端設置有疏通件，所述疏通件為首尾相連的鏤空結構。

進一步，所述疏通件的橫截面面積大于所述清理件背離所述滑桿的一端的橫截面面積。

進一步，所述疏通件所在平面與所述清理件移動方向垂直。

本發明還提供一種廢氣處理裝置，其包括：進氣端，設置有至少一進氣口；如上所述的進氣口清理裝置，設置在所述進氣端的外部，所述清理件延伸至所述進氣口內，且能夠沿所述進氣口的軸向移動。

進一步，所述廢氣處理裝置還包括一設置在所述進氣端外部的進氣室，所述進氣口與所述進氣室對應，所述缸體設置在所述進氣室外部，所述滑桿延伸進入所述進氣室，所述保護套設置在所述進氣室內。

進一步，所述廢氣處理裝置還包括一蓋殼，所述蓋殼設置在所述進氣端的外部，且與所述進氣端形成所述進氣空間。

進一步，所述缸體固定設置在所述蓋殼的外部頂面。

進一步，所述保護套的固定端固定設置在所述蓋殼的內部頂面。