[發明專利]光學系統、鏡頭模組和電子設備在審
| 申請號: | 202010195862.X | 申請日: | 2020-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN111208629A | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發明(設計)人: | 黨緒文;劉彬彬;鄒海榮;李明 | 申請(專利權)人: | 南昌歐菲精密光學制品有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/06;G02B13/18 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強 |
| 地址: | 330096 江西省南昌市南昌*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學系統 鏡頭 模組 電子設備 | ||
1.一種光學系統,其特征在于,沿光軸方向的物側至像側依次包含:
第一透鏡,具有正屈折力,所述第一透鏡的物側面和像側面均為非球面;
第二透鏡,具有負屈折力,所述第二透鏡近光軸區域的物側面為凸面,所述第二透鏡近光軸區域的像側面為凹面;
第三透鏡,具有正屈折力,所述第三透鏡近光軸區域的物側面為凸面,所述第三透鏡近圓周區域的像側面為凸面;
第四透鏡,具有屈折力,所述第四透鏡的物側面和像側面均為非球面;
第五透鏡,具有屈折力,所述第五透鏡的物側面和像側面均為非球面,所述第五透鏡的物側面和像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點;
第六透鏡,具有正屈折力,所述第六透鏡近光軸區域的物側面為凸面,所述第六透鏡的物側面和像側面均為非球面,所述第六透鏡的物側面和像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點;
第七透鏡,具有負屈折力,所述第七透鏡近光軸區域的物側面為凸面,所述第七透鏡近光軸區域的像側面為凹面,所述第七透鏡的物側面和像側面均為非球面,所述第七透鏡的物側面和像側面中至少一個面設置有至少一個反曲點。
2.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
101.0≤FOV≤105.0;
其中,FOV為所述光學系統的最大視場角。
3.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
1.10<TTL/ImgH<1.45;
其中,TTL為所述第一透鏡的物側面到成像面于光軸上的距離,ImgH為所述成像面上有效成像區域的對角線長度的一半。
4.如權利要求2所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
19.00<FOV/TTL≤25.00;
其中,TTL為所述第一透鏡的物側面到成像面于光軸上的距離。
5.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
|HDIS/f|<1.45;
其中,HDIS為所述光學系統水平方向的TV畸變值,f為所述光學系統的有效焦距。
6.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
5.00<(|f4|+|f5|)/f<423.00;
其中,f4為所述第四透鏡的有效焦距,f5為所述第五透鏡的有效焦距,f為所述光學系統的有效焦距。
7.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
|SAG71/R72|<0.50;
其中,SAG71為所述第七透鏡的物側面軸向方向的的最大矢高,R72為所述第七透鏡的像側面光軸處的曲率半徑。
8.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
1.60<(CT1+CT2+CT3)/BFL<2.90;
其中,CT1為所述第一透鏡于光軸上的厚度,CT2為所述第二透鏡于光軸上的厚度,CT3為所述第三透鏡于光軸上的厚度,BFL為所述第七透鏡的像側面在平行于光軸方向距成像面的最近距離。
9.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
0.30<(SAG52+SAG61)/(ET5+CT6)<1.20;
其中,SAG52為所述第五透鏡的像側面軸向方向的最大矢高,SAG61為所述第六透鏡的物側面軸向方向的的最大矢高,ET5為所述第五透鏡最大光學有效徑處的厚度,CT6為所述第六透鏡于光軸上的厚度。
10.如權利要求1所述的光學系統,其特征在于,所述光學系統滿足條件式:
(f3+|f4|)/(R31+|R41|)<12.00;
其中,f3為所述第三透鏡的有效焦距,f4為所述第四透鏡的有效焦距,R31為第三透鏡物側面光軸處的曲率半徑,R41為所述第四透鏡物側面光軸處的曲率半徑。
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