[發(fā)明專利]一種具有吸波功能的雙通帶透波結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010195231.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111355034B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 車永星;盧瀾;李浩彤;袁曉峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號(hào): | H01Q15/00 | 分類號(hào): | H01Q15/00;H01Q17/00 |
| 代理公司: | 北京格允知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 周嬌嬌 |
| 地址: | 100854*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 功能 雙通帶透波 結(jié)構(gòu) | ||
本發(fā)明涉及一種具有吸波功能的雙通帶透波結(jié)構(gòu),包括蒙皮層、泡沫層、損耗層和FSS層,從上至下依次為蒙皮層、損耗層、蒙皮層、泡沫層、蒙皮層、頻率選擇表面層和蒙皮層,各層之間粘接在一起,本發(fā)明具有可同時(shí)實(shí)現(xiàn)Ku、Ka兩個(gè)頻段透波和低頻段吸波的雙重功能,能夠降低其工作頻帶外后向電磁散射的優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及雷達(dá)透波技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種具有吸波功能的雙通帶透波結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在安裝有雷達(dá)傳感器的各類武器裝備上,都通過(guò)由特殊的雷達(dá)透波結(jié)構(gòu)構(gòu)成的天線罩來(lái)提高雷達(dá)系統(tǒng)的低可探測(cè)性。傳統(tǒng)的雷達(dá)透波結(jié)構(gòu)不具備低可探測(cè)性,而傳統(tǒng)雷達(dá)吸波結(jié)構(gòu)雖然對(duì)雷達(dá)的低可探測(cè)性提高具有明顯的效果,但傳統(tǒng)的雷達(dá)吸波結(jié)構(gòu)不適合應(yīng)用于天線罩。
傳統(tǒng)的雷達(dá)吸波結(jié)構(gòu)主要通過(guò)由介質(zhì)層間隔的阻抗層和金屬襯底組成,目前主要有單層阻抗層構(gòu)成的Salisbury屏,只可在單個(gè)諧振頻點(diǎn)實(shí)現(xiàn)吸波特性;由多層阻抗層構(gòu)成的Jaumann吸波結(jié)構(gòu),通過(guò)阻抗層的疊加可以實(shí)現(xiàn)多各諧振頻點(diǎn)的吸波特性,擴(kuò)展吸波帶寬;由刻蝕有單元的阻抗膜或加載有集總元器件的電路層構(gòu)成的吸波結(jié)構(gòu),可在更薄的結(jié)構(gòu)厚度內(nèi)具有寬帶雷達(dá)吸波特性。但是以上雷達(dá)吸波結(jié)構(gòu)的襯底均全部由金屬層覆蓋,由于金屬層的存在,此類吸波結(jié)構(gòu)不適于作為天線罩的結(jié)構(gòu)。
目前的Ku、Ka雙通帶透波結(jié)構(gòu)是通過(guò)應(yīng)用頻率選擇表面(FSS)技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)的,即由介質(zhì)層間隔的金屬單元陣列薄膜構(gòu)成,可獲得在雷達(dá)工作波段透波,反射其它波段電磁波的特性,通過(guò)外形設(shè)計(jì)獲得帶外低可探測(cè)特性,而構(gòu)成該天線罩的結(jié)構(gòu)不具備吸波特性。由于受到氣動(dòng)外形等因素的影響,此類天線罩的低可探測(cè)性能不足。
因此,針對(duì)以上不足,需要提供一種具有吸波功能的雙通帶透波結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是解決現(xiàn)有雷達(dá)吸波結(jié)構(gòu)不適用于天線罩和Ku、Ka頻段透波的FSS天線罩低可探測(cè)性能不足的問(wèn)題。
(二)技術(shù)方案
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種具有吸波功能的雙通帶透波結(jié)構(gòu),包括蒙皮層、泡沫層、損耗層和FSS層,從上至下依次為蒙皮層、損耗層、蒙皮層、泡沫層、蒙皮層、頻率選擇表面層和蒙皮層,各層之間粘接在一起。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,損耗層為在二維平面內(nèi)交叉周期重復(fù)排列的損耗層基本單元構(gòu)成,通過(guò)對(duì)損耗層單元的緊密排列實(shí)現(xiàn)對(duì)帶外電磁波的強(qiáng)吸吸收性能。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,損耗層基本單元為焊接了電阻器件的三極子金屬貼片,所述三極子貼片中各偶極子線寬為W1,邊長(zhǎng)為W2,相互夾角為120°,電阻器件電阻值為r,其中W1的取值范圍介于0.1~0.2mm,W2的取值范圍介于5~10mm,r的取值范圍介于200~300Ω,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)的小型化,并且在低頻頻段實(shí)現(xiàn)吸波功能。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,兩個(gè)損耗層基本單元以R1為中心距離拼接在一起構(gòu)成一個(gè)損耗層陣列單元,其中R1的取值范圍介于5~10mm。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,損耗層陣列單元以垂直方向排列周期為D1,水平方向排列周期為D2構(gòu)成損耗層陣列,其中D1的取值范圍介于10~15mm,D2的取值范圍介于15~20mm。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,F(xiàn)SS層為在二維平面內(nèi)交叉周期重復(fù)排列的FSS層基本單元構(gòu)成,電磁波相互作用表現(xiàn)出Ku和Ka頻段透波,低頻頻段反射電磁波的性能。
作為對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步說(shuō)明,優(yōu)選地,兩個(gè)FSS層基本單元以R2為中心距離拼接在一起構(gòu)成一個(gè)FSS層陣列單元,其中R2的取值范圍介于5~10mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京環(huán)境特性研究所,未經(jīng)北京環(huán)境特性研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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