[發(fā)明專利]阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊及其定值方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010193907.X | 申請(qǐng)日: | 2020-03-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111272702A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘忠泉;楊欣欣;周賽;孫文慧;劉霞;胡國(guó)星;拓銳;龔維;任萬(wàn)杰;劉新;李昕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東非金屬材料研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/41 | 分類號(hào): | G01N21/41 |
| 代理公司: | 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205 | 代理人: | 苗峻;王增娣 |
| 地址: | 250031 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 折射 標(biāo)準(zhǔn) 及其 方法 | ||
1.一種阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊,由折射率介于1.3~1.7的光學(xué)玻璃材料制成,其特征在于:標(biāo)準(zhǔn)塊呈柱形,它包括至少三個(gè)垂直于同一平面的平面柱面,其第一平面柱面(1)和第二平面柱面(2)之間的夾角θ為89°59′~90°1′,第三平面柱面與第二平面柱面(3)的夾角β為22.5°~67.5°,上述三個(gè)平面柱面為拋光面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征是:第一平面柱面(1)及第二平面柱面寬度(2)a、b不小于11mm,棱柱長(zhǎng)度L不小于15mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征是:所述的夾角β為60°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征是:所述的棱柱為四棱柱,第四平面柱面(4)與第二平面柱面(2)平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊,其特征是:所述的棱柱為三棱柱。
6.利用如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊定值的方法,其特征是:所述的方法為最小偏向角法,以標(biāo)準(zhǔn)塊的第一平面柱面(1)或第二平面柱面(2)中的一個(gè)平面柱面與第三平面柱面(3)分別作為入射面和出射面,按照公式(1)計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)塊的折射率、按照公式(2)評(píng)價(jià)測(cè)量偏差:
式中:n--標(biāo)準(zhǔn)塊的折射率示值;
δ--出射光與入射光的夾角;
γ--入射平面柱面與出射平面柱面的夾角;當(dāng)?shù)谝黄矫嬷婧偷谌矫嬷婊槿肷浜统錾涿鏁r(shí),γ為α;當(dāng)?shù)诙矫嬷婧偷谌矫嬷婊槿肷浜统錾涿鏁r(shí),γ為β。
7.利用如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊的定值方法,其特征是:所述的方法為自準(zhǔn)直法定值,以標(biāo)準(zhǔn)塊的第三平面柱面為入射面、第一平面柱面或第二平面柱面中的一個(gè)平面柱面為反射面,按照公式(3)計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)塊的折射率、按照公式(4)評(píng)價(jià)測(cè)量偏差:
式中:n--標(biāo)準(zhǔn)塊的折射率示值;
i--入射角;
--入射平面柱面與反射平面柱面的夾角;當(dāng)?shù)谝黄矫嬷鏋榉瓷涿鏁r(shí),為α;當(dāng)?shù)诙矫嬷鏋榉瓷涿鏁r(shí),為β。
8.利用如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的阿貝折射儀標(biāo)準(zhǔn)塊的定值方法,其特征是:使用V棱鏡折射儀定值,將標(biāo)準(zhǔn)塊的兩個(gè)垂直的面與V棱鏡的V形基座配合,對(duì)標(biāo)準(zhǔn)塊進(jìn)行定值。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東非金屬材料研究所,未經(jīng)山東非金屬材料研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010193907.X/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





