[發(fā)明專利]顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010192929.4
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN111722447B
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊奈恵一;海瀨泰佳
• 申請（專利權(quán)）人: 夏普株式會(huì)社
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/136
• 代理公司: 北京市隆安律師事務(wù)所 11323
• 代理人: 權(quán)鮮枝;劉寧軍

提供一種顯示裝置，能夠降低在信號線與掃描線之間產(chǎn)生的寄生電容。顯示裝置具備貫通顯示區(qū)域的貫通孔、多條信號線、以及多條掃描線。信號線具有第1直線部和第1迂回部。掃描線布設(shè)在與信號線不同的層，具有第2直線部和第2迂回部。各信號線的第1直線部與各掃描線的第2迂回部在俯視時(shí)交叉，各信號線的第1迂回部與各掃描線的第2迂回部布設(shè)在相互不同的區(qū)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示裝置。

背景技術(shù)

近年來，在智能手機(jī)等具備相機(jī)功能的電子設(shè)備中，有些為了確保顯示區(qū)域的面積，在該顯示區(qū)域中配置有相機(jī)鏡頭。在這種電子設(shè)備中，在上述顯示區(qū)域設(shè)置有用于安裝相機(jī)鏡頭的貫通孔。

在上述顯示區(qū)域中，在貫通孔的周圍需要使信號線和掃描線等配線迂回。但是，如果以避開貫通孔的方式使配線迂回，則顯示區(qū)域的面積會(huì)變小使配線迂回的部分的量。

為此，例如專利文獻(xiàn)1中記載了一種顯示裝置，其在使上述配線中的一部分匯聚的狀態(tài)下使其繞過上述貫通孔，從而節(jié)約配線的空間。在該顯示裝置中，在俯視時(shí)信號線與掃描線交叉的部分，將信號線與掃描線設(shè)置于不同的層來進(jìn)行布設(shè)，從而確保了顯示區(qū)域的面積。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：特開2008-257191號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，在專利文獻(xiàn)1的顯示裝置中，在使配線迂回的部分，在俯視時(shí)信號線與掃描線是交叉的，因此在配置于不同層的信號線與掃描線之間會(huì)產(chǎn)生寄生電容。從而，存在顯示裝置的顯示質(zhì)量有可能下降這一問題。

本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的，其目的在于提供一種顯示裝置，能夠降低在信號線與掃描線之間產(chǎn)生的寄生電容。

用于解決問題的方案

(1)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的顯示裝置具備：基板，其具有顯示區(qū)域；貫通孔，其貫通所述顯示區(qū)域；多條第1配線，其具有沿著第1方向以直線狀延伸的第1直線部和繞過所述貫通孔進(jìn)行布設(shè)的第1迂回部；以及多條第2配線，其具有沿著第2方向以直線狀延伸的第2直線部和繞過所述貫通孔進(jìn)行布設(shè)的第2迂回部，布設(shè)在與所述多條第1配線不同的層。所述多條第1配線的所述第1直線部與所述多條第2配線的所述第2迂回部在從所述基板的厚度方向觀看時(shí)交叉，所述多條第1配線的所述第1迂回部與所述多條第2配線的所述第2迂回部布設(shè)在相互不同的區(qū)域。

(2)另外，本發(fā)明的某實(shí)施方式的顯示裝置是，在上述(1)的構(gòu)成的基礎(chǔ)上，多個(gè)所述第1迂回部中的一部分所述第1迂回部與所述第1直線部形成于同一層，多個(gè)所述第1迂回部中的其它第1迂回部與所述第1直線部形成于不同的層。

(3)另外，本發(fā)明的某實(shí)施方式的顯示裝置是，在上述(2)的構(gòu)成的基礎(chǔ)上，多個(gè)所述第1迂回部中的一部分所述第1迂回部形成于比所述第1直線部靠上側(cè)的層。

(4)另外，本發(fā)明的某實(shí)施方式的顯示裝置是，在上述(2)的構(gòu)成的基礎(chǔ)上，多個(gè)所述第1迂回部中的一部分所述第1迂回部形成于比所述第1直線部靠下側(cè)的層。

(5)另外，本發(fā)明的某實(shí)施方式的顯示裝置是，在上述(2)的構(gòu)成的基礎(chǔ)上，多個(gè)所述第1迂回部之間的間距小于多個(gè)所述第1直線部之間的間距。

(6)另外，本發(fā)明的某實(shí)施方式的顯示裝置是，在上述(1)至上述(5)的任意一個(gè)構(gòu)成的基礎(chǔ)上，所述第1配線是信號線，所述第2配線是掃描線，所述多條第1配線形成于比所述多條第2配線靠上側(cè)的層。

發(fā)明效果