[發明專利]一種真空蒸鍍設備

在審

• 申請號: 202010192222.3
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN111118454A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 宋風寬;周昌峰
• 申請（專利權）人: 鄭州科探儀器設備有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 王學芝

本發明涉及一種真空蒸鍍設備，包括殼體，殼體上設置真空腔體底座和真空腔體罩，真空腔體底座和真空腔體罩圍成真空腔體，真空腔體座上設有安裝架，安裝架上設有蒸鍍臺，真空腔體座上設有能夠轉動的遮擋板，真空腔體座上設置有轉軸，遮擋板包括上下貼合設置的上擋板和下擋板，各擋板轉動均轉動安裝于轉軸上且各擋板與轉軸之間依靠摩擦力能夠隨轉軸同步轉動，安裝架上設置有與各擋板限位擋止配合的限位結構，上、下擋板具有轉動后相互配合對蒸鍍坩堝進行遮擋的遮擋位，上、下擋板還具有反向轉動后避開下方蒸鍍坩堝的讓開位。與現有技術相比，上述結構的蒸鍍設備可以減小真空腔體的體積，進而減小整個蒸鍍設備的體積與重量，節省了生產成本。

技術領域

本發明涉及蒸鍍技術領域，具體涉及一種真空蒸鍍設備。

背景技術

真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術，具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結構和性能獨特等優點。

現有的真空蒸鍍設備一般具有真空腔體，腔體中設置有蒸鍍臺，蒸鍍臺下方設置有蒸鍍坩堝和對蒸鍍坩堝進行加熱的加熱裝置，蒸鍍坩堝中放置膜料。由于蒸鍍開始時，膜料溫度低，膜料氣化效果差，蒸鍍效果也較差，此時一般會在蒸鍍件和蒸鍍坩堝之間設置可以轉動的遮擋件，當膜料溫度代達到設定溫度并穩定后再異開遮擋件進行至蒸鍍。但是現有遮擋件都是整塊板，由于遮擋件需要轉動遮擋或讓開蒸鍍坩堝，導致真空腔體的體積需要足夠大才能滿足遮擋件的轉動，導致整個真空蒸鍍設備的體積也較大，不僅增加了生產成本，而且整個設備比較笨重。

發明內容

本發明的目的是提供一種體積小、生產成本低的真空蒸鍍設備。

為實現上述目的，本發明的一種真空蒸鍍設備采用如下技術方案：一種真空蒸鍍設備，包括殼體，殼體上設置真空腔體底座和真空腔體罩，真空腔體底座和真空腔體罩圍成真空腔體，真空腔體座上設置有安裝架，安裝架上設置有供蒸鍍件安裝的蒸鍍臺，真空腔體座上還設置有蒸鍍坩堝和對蒸鍍坩堝加熱的加熱結構，真空腔體座上于蒸鍍坩堝與蒸鍍臺之間設置有能夠轉動的遮擋板，所述真空腔體座上設置有轉軸，遮擋板包括上下貼合設置的上擋板和下擋板，各擋板轉動均轉動安裝于轉軸上且各擋板與轉軸之間依靠摩擦力能夠隨轉軸同步轉動，安裝架上設置有與各擋板限位擋止配合的限位結構，上、下擋板具有轉動后相互配合對蒸鍍坩堝進行遮擋的遮擋位，上、下擋板還具有反向轉動后避開下方蒸鍍坩堝的讓開位。

所述限位結構包括設置于安裝架上的限位擋板，下擋板上設有其位于遮擋位時與限位擋板限位擋止配合的第一凸起，下擋板上還設置有其位于讓開位時與限位擋板限位擋止配合的第二凸起，上擋板上設有其位于遮擋位時與限位擋板限位擋止配合的第三凸起，上擋板上還設置有其位于讓開位時與限位擋板限位擋止配合的第四凸起。

所述蒸鍍臺轉動安裝于安裝架上，轉軸上設置有第一齒輪，蒸鍍臺上設置有與第一齒輪嚙合傳動的第二齒輪以帶動蒸鍍臺轉動。

所述安裝架上設置有安裝孔，安裝架上沿安裝孔的孔沿周向間隔設置有三個以上的限位輪，蒸鍍臺包括與限位輪的外周面滾動配合的轉動配合柱，第二齒輪設置于轉動配合柱上。

所述轉軸上同軸線傳動安裝有傳動件，傳動件具有供各擋板轉動安裝的安裝段和形成上述第一齒輪的齒輪段。

所述安裝架包括豎向支架和橫向支架，蒸鍍臺設置于橫向支架上，橫向支架通過上下調節結構安裝于豎向支架上。

所述上下調節結構包括設置于豎向支架上的導向柱，橫向支架上設置有與導向柱上下導向移動配合的導向孔，橫向支架上設置有當其調節至設定高度時對其固定的固定螺釘。