[發(fā)明專利]一種投影調(diào)試方法和系統(tǒng)、校正方法和系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010191903.8
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN111372065A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭崧;鄭小華;陳奮發(fā);廖微
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市康帕斯科技發(fā)展有限公司
• 主分類號: H04N9/31
• 分類號: H04N9/31
• 代理公司: 廣州潤禾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44446
• 代理人: 林偉斌

1.一種投影調(diào)試方法，其特征在于，包括：

預(yù)設(shè)至少一個環(huán)境參數(shù)條件；

選取一個所預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件，當(dāng)判斷當(dāng)前環(huán)境滿足所選取的環(huán)境參數(shù)條件時，對投影儀的投影畫面進行幾何校正，得到所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)，對所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)進行保存；

若預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件多于一個時，在所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)保存后，選取下一個所預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件，并繼續(xù)判斷當(dāng)前環(huán)境是否滿足所選取的環(huán)境參數(shù)條件，直到所有環(huán)境參數(shù)條件被選取完。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種投影調(diào)試方法，其特征在于，每個所述環(huán)境參數(shù)條件包括溫度條件、濕度條件、氣壓條件、投影儀工作功率條件的一種或多種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種投影調(diào)試方法，其特征在于，所述對投影儀的投影畫面進行幾何校正的步驟，具體為：

對投影儀投影的網(wǎng)格畫面進行幾何校正。

4.一種投影調(diào)試系統(tǒng)，其特征在于，包括：

參數(shù)設(shè)置模塊，用于預(yù)設(shè)至少一個環(huán)境參數(shù)條件；

環(huán)境監(jiān)測模塊，用于選取一個所預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件；

校正保存模塊，用于當(dāng)判斷當(dāng)前環(huán)境滿足所選取的環(huán)境參數(shù)條件時，對投影儀的投影畫面進行幾何校正，得到所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)，對所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)進行保存；

所述環(huán)境監(jiān)測模塊還用于若預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件多于一個時，在所選取的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)保存后，選取下一個所預(yù)設(shè)的環(huán)境參數(shù)條件，并繼續(xù)判斷當(dāng)前環(huán)境是否滿足所選取的環(huán)境參數(shù)條件，直到所有環(huán)境參數(shù)條件被選取完。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種投影調(diào)試系統(tǒng)，其特征在于，每個所述環(huán)境參數(shù)條件包括溫度條件、濕度條件、氣壓條件、投影儀工作功率條件的一種或多種。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種投影調(diào)試系統(tǒng)，其特征在于，所述投影校正模塊用于對投影儀的投影畫面進行幾何校正的步驟，具體為：

對投影儀投影的網(wǎng)格畫面進行幾何校正。

7.一種投影校正方法，其特征在于，包括：

判斷當(dāng)前環(huán)境滿足預(yù)設(shè)至少一個環(huán)境參數(shù)條件中的一個；

獲取當(dāng)前環(huán)境所滿足的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)；

根據(jù)所獲取的幾何校正參數(shù)對投影儀的投影畫面進行幾何校正。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的投影校正方法，其特征在于，所述幾何校正參數(shù)通過權(quán)利要求1-3任一項所述的投影調(diào)試方法獲得。

9.一種投影校正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

環(huán)境判斷模塊，用于判斷當(dāng)前環(huán)境滿足至少一個預(yù)設(shè)環(huán)境參數(shù)條件中的一個；

參數(shù)獲取模塊，用于獲取所述環(huán)境判斷模塊判斷到的當(dāng)前環(huán)境所滿足的環(huán)境參數(shù)條件對應(yīng)的幾何校正參數(shù)；

投影校正模塊，用于根據(jù)所述參數(shù)獲取模塊所獲取的幾何校正參數(shù)對投影儀的投影畫面進行幾何校正。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種投影校正系統(tǒng)，其特征在于，所述幾何校正參數(shù)通過權(quán)利要求4-6任一項所述的投影調(diào)試系統(tǒng)獲得。

11.一種計算機設(shè)備，包括存儲器和處理器，存儲器存儲有計算機程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行計算機程序時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至3任一項所述的投影調(diào)試方法或如權(quán)利要求7或8所述的投影校正方法。

12.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其上存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至3任一項所述的投影調(diào)試方法或如權(quán)利要求7或8所述的投影校正方法。