[發明專利]一種氣流磨的主機結構

在審

• 申請號: 202010191897.6
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN111375474A
• 公開（公告）日: 2020-07-07
• 發明（設計）人: 薛鳴;薛川
• 申請（專利權）人: 上海賽山粉體機械制造有限公司
• 主分類號: B02C19/06
• 分類號: B02C19/06
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 鄭沖

1.一種氣流磨的主機結構，其特征在于，包括主機上蓋(1)、主機下蓋(2)、及具有粉碎噴嘴(31)的粉碎環(3)，所述粉碎環(3)位于主機上蓋(1)和主機下蓋(2)之間，所述粉碎環(3)的上下兩端面分別與主機上蓋(1)和主機下蓋(2)相接觸，且所述主機上蓋(1)與主機下蓋(2)可拆卸連接，所述主機上蓋(1)和/或主機下蓋(2)上設有粉碎環限位凸起(4)，所述粉碎環(3)套設在粉碎環限位凸起(4)上。

2.根據權利要求1所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述主機上蓋(1)包括上蓋主體(11)和安裝在上蓋主體(11)上的上蓋內襯(12)，所述上蓋內襯(12)上設有所述粉碎環限位凸起(4)。

3.根據權利要求2所述氣流磨的主機結構，其特征在于，還包括上蓋內襯固定管(13)，所述上蓋內襯固定管(13)穿設在上蓋主體(11)的上蓋主體孔及上蓋內襯(12)的上蓋內襯孔中，且所述上蓋內襯固定管(13)與上蓋主體(11)螺紋連接，所述上蓋內襯固定管(13)的端部設有上壓緊凸緣(131)，所述上壓緊凸緣(131)與上蓋內襯(12)的下端面相抵靠，所述上蓋內襯(12)的上端面與上蓋主體(11)相接觸。

4.根據權利要求2或3所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述上蓋主體(11)上設有截面呈環狀的上限位凸起(111)，所述上蓋內襯(12)套設在上限位凸起(111)的內部。

5.根據權利要求1所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述主機下蓋(2)包括下蓋主體(21)和安裝在下蓋主體(21)上的下蓋內襯(22)，所述下蓋內襯(22)上設有所述粉碎環限位凸起(4)。

6.根據權利要求5所述氣流磨的主機結構，其特征在于，還包括下蓋內襯固定管(23)，所述下蓋內襯固定管(23)穿設在下蓋主體(21)的下蓋主體孔及下蓋內襯(22)的下蓋內襯孔中，且所述下蓋內襯固定管(23)與下蓋主體(21)螺紋連接，所述下蓋內襯固定管(23)的端部設有下壓緊凸緣(231)，所述下壓緊凸緣(231)與下蓋內襯(22)的上端面相抵靠，所述下蓋內襯(22)的下端面與下蓋主體(21)相接觸。

7.根據權利要求5或6所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述下蓋主體(21)上設有截面呈環狀的下限位凸起(211)，所述下蓋內襯(22)套設在下限位凸起(211)的內部。

8.根據權利要求1所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述主機下蓋(2)包括下蓋板部(212)和截面呈環狀的側壁部(213)，所述側壁部(213)的下端與下蓋板部(212)固接，所述側壁部(213)的上端設有下蓋凸緣部(214)，所述主機上蓋(1)的邊緣設有上蓋連接部(14)，所述下蓋凸緣部(214)與上蓋連接部(14)通過卡箍(51)固定連接。

9.根據權利要求8所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述主機上蓋(1)、粉碎環(3)、及主機下蓋(2)之間形成呈圈狀的氣室(6)，所述側壁部(213)上設有進氣孔(215)，所述進氣孔(215)與氣室(6)相通，所述氣室(6)與粉碎環(3)上的全部粉碎噴嘴(31)相通。

10.根據權利要求1所述氣流磨的主機結構，其特征在于，所述粉碎環(3)與粉碎環限位凸起(4)過渡配合；且所述粉碎環(3)的上端面與主機上蓋(1)的接觸處設有密封圈(52)，所述粉碎環(3)的下端面與主機下蓋(2)的接觸處設有密封圈(52)。