[發(fā)明專利]一種納米銀線基偏光片及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010191477.8 | 申請日: | 2020-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN111240081B | 公開(公告)日: | 2022-11-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張梓晗;呂鵬;姚成鵬;張運奇 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥微晶材料科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 34101 | 代理人: | 盧敏 |
| 地址: | 230088 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 銀線基 偏光 及其 制作方法 | ||
1.一種納米銀線基偏光片的制作方法,其特征在于:首先在基底表面涂布一層含聚氨酯丙烯酸酯的底涂劑并固化成膜,再利用絨布輥摩擦對其表面進(jìn)行配向,形成配向膜;然后將納米銀線導(dǎo)電墨水涂布到配向膜表面并固化成膜,且在聚氨酯丙烯酸酯分子鏈對納米銀線表面聚乙烯基吡咯烷酮氧基團(tuán)的錨定力作用下,納米銀線定向排列成納米銀線陣列;再在排列好的銀線陣列表面涂布一層OC液并固化成膜,形成OC保護(hù)層;最后再在OC保護(hù)層表面貼附一層OCA光學(xué)膠,即得納米銀線基偏光片;
所述配向膜的制作方法包括如下步驟:
步驟1、將底涂劑通過微凹涂布工藝或夾縫式擠壓型涂布工藝涂布在基底表面,120~150℃加熱1~3min烘干成膜,再200~800mJ/cm2 UV照射10~30s以進(jìn)一步固化,形成底涂層;
步驟2、將所述基底以所述底涂層朝上置于摩擦取向設(shè)備的載臺上,設(shè)置基底與絨布輥之間的角度為0°、45°、90°或135°;
步驟3、調(diào)整載臺高度,使基底與絨布輥壓入量為0.3~0.4mm,設(shè)置輥輪轉(zhuǎn)速為500~1500rpm,設(shè)置載臺移動速度為10~100mm/s,然后按照既定方向平移載臺對底涂層表面進(jìn)行配向,從而形成配向膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于:所述底涂劑的各組分按質(zhì)量百分比的構(gòu)成為:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制作方法,其特征在于:所述溶劑是由丁酮、乙酸乙酯和乙二醇按質(zhì)量比1:1:1復(fù)配而成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的制作方法,其特征在于,所述底涂劑的配制方法為:將聚氨酯丙烯酸酯、光引發(fā)劑1173、流平劑BYK-333和溶劑依次加入分散缸,然后以200~800r/min的速度勻速攪拌30~90min,即制得底涂劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制作方法,其特征在于:所述聚氨酯丙烯酸酯為沙多瑪CN8885NS、CN9010NS、CN9013NS和CN9110NS中的一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述納米銀線陣列的制作方法為:將納米銀線導(dǎo)電墨水通過微凹涂布工藝或夾縫式擠壓型涂布工藝涂布在配向膜表面,使用隧道爐100~150℃加熱1~3min烘干成膜,利用聚氨酯丙烯酸酯分子鏈對納米銀線表面聚乙烯基吡咯烷酮氧基團(tuán)的錨定力,將納米銀線定向排列成納米銀線陣列。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述OC保護(hù)層的制作方法為:將OC液通過微凹涂布工藝或夾縫式擠壓型涂布工藝涂布在納米銀線陣列表面,120~150℃加熱1~3min烘干成膜,再200~800mJ/cm2 UV照射10~30s以進(jìn)一步固化,形成OC保護(hù)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述OCA貼附方法為:采用卷對卷方式將基底與OCA進(jìn)行貼合,貼合壓力控制在0.01~0.1Mpa。
9.一種權(quán)利要求1~8中任意一項所述制作方法所獲得的納米銀線基偏光片。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于合肥微晶材料科技有限公司,未經(jīng)合肥微晶材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010191477.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





