[發明專利]單晶硅片的制絨添加劑及其應用

在審

• 申請號: 202010191090.2
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN111139531A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 張麗娟;周樹偉;陳培良;賀婷婷
• 申請（專利權）人: 常州時創能源股份有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10;C30B29/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，其各組分的質量百分含量為：水溶性高分子0.2%～4%，腐植酸鈉0.15%～0.5%，山梨酸鉀1%～2%，乙酸鈉1.5%～3.5%，余量為水。

2.根據權利要求1所述的單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述水溶性高分子為天然類水溶性高分子。

3.根據權利要求2所述的單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述天然類水溶性高分子選自植物膠、動物膠、海藻膠中的一種或幾種。

4.根據權利要求3所述的單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述植物膠選自黃蜀葵膠、槐豆膠、大豆膠、瓜兒豆膠中的一種或幾種。

5.根據權利要求3所述的單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述動物膠選自骨膠、明膠中的一種或兩種。

6.根據權利要求3所述的單晶硅片的制絨添加劑，其特征在于，所述海藻膠選自褐藻膠、海藻酸鈉中的一種或兩種。

7.單晶硅片的制絨液，其特征在于，其含有堿溶液和權利要求1至6中任意一項所述的制絨添加劑，制絨添加劑與堿溶液的質量比為0.5～1.5:100，堿溶液為無機堿的水溶液。

8.根據權利要求7所述的單晶硅片的制絨液，其特征在于，所述堿溶液為1.0～3.0wt%的氫氧化鈉或氫氧化鉀水溶液。

9.單晶硅片的制絨方法，其特征在于，利用權利要求7或8所述的制絨液對單晶硅片進行表面制絨。

10.根據權利要求9所述的單晶硅片的制絨方法，其特征在于，其具體步驟包括：

1）配制制絨添加劑：將質量百分含量為0.2%～4%的水溶性高分子、0.15%～0.5%的腐植酸鈉、1%～2%的山梨酸鉀、1.5%～3.5%的乙酸鈉加入到余量的水中，混合均勻配成制絨添加劑；

2）配制制絨液：將步驟1）制成的制絨添加劑加到堿溶液中，混合均勻配成制絨液；制絨添加劑與堿溶液的質量比為0.5～1.5:100；堿溶液為無機堿的水溶液；

3）將單晶硅片浸入步驟2）制得的制絨液中進行表面制絨，制絨溫度75～85℃，制絨時間為270～360s。