[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010190012.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111223909A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾維靜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板及其制備方法,所述顯示面板包括陣列基板、陽(yáng)極層、像素定義層、發(fā)光層、陰極層和填充層,所述陽(yáng)極層設(shè)置于所述陣列基板上,所述像素定義層覆蓋所述陣列基板及所述陽(yáng)極層上,所述定義層包括第一通孔,所述第一通孔貫穿所述像素定義層,以暴露所述陽(yáng)極層,所述發(fā)光層設(shè)置于所述第一通孔中以電連接所述陽(yáng)極層,所述陰極層覆蓋所述像素定義層和發(fā)光層,所述陰極層包括凹槽,所述凹槽位于所述第一通孔上,所述填充層設(shè)置于所述凹槽中。在本申請(qǐng)中,將填充層設(shè)置于陰極層的凹槽中,避免了顯示面板在后續(xù)封裝制程中產(chǎn)生氣泡,提高顯示面板的封裝效果和顯示效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種顯示面板及其制備方法。
背景技術(shù)
OLED即有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode),因具有自發(fā)光、高亮度、寬視角、高對(duì)比度、可撓曲和低能耗等特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用在手機(jī)屏幕、電腦顯示器和全彩電視中。OLED顯示面板的封裝通常采用面封裝方法,但因薄膜晶體管基板完成電致發(fā)光層成膜后,在像素開(kāi)口區(qū)會(huì)形成凹陷,該區(qū)域采用面封裝方法封裝后易形氣泡,進(jìn)而影響顯示面板的顯示效果及封裝效果。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板,以提高顯示面板的顯示效果及封裝效果。
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板,包括:
一陣列基板;
陽(yáng)極層,所述陽(yáng)極層設(shè)置于所述陣列基板上;
像素定義層,所述像素定義層覆蓋所述陣列基板及所述陽(yáng)極層上,所述定義層包括第一通孔,所述第一通孔貫穿所述像素定義層,以暴露所述陽(yáng)極層;
發(fā)光層,所述發(fā)光層設(shè)置于所述第一通孔中以電連接所述陽(yáng)極層;
陰極層,所述陰極層覆蓋所述像素定義層和發(fā)光層,所述陰極層包括凹槽,所述凹槽位于所述第一通孔上;
填充層,所述填充層設(shè)置于所述凹槽中。
在本申請(qǐng)所提供的顯示面板中,所述陽(yáng)極層、所述發(fā)光層、所述陰極層及所述填充層的厚度之和大于所述像素定義層的厚度。
在本申請(qǐng)所提供的顯示面板中,所述填充層的材料包括聚酰亞胺、聚乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯和六甲基二甲硅醚中的一種或幾種組合。
在本申請(qǐng)所提供的顯示面板中,所述填充層的表面高于所述陰極層的表面或者與所述陰極層的表面平齊。
在本申請(qǐng)所提供的顯示面板中,所述顯示面板還包括阻擋層,所述阻擋層覆蓋所述陰極層及所述填充層。
在本申請(qǐng)所提供的顯示面板中,所述顯示面板還包括平坦層,所述平坦層設(shè)置于所述陣列基板上,所述平坦層包括第二通孔,所述第二通孔貫穿所述平坦層以暴露所述陣列基板,所述陽(yáng)極層設(shè)置于所述第二通孔中及所述平坦層上與所述陣列基板電連接。
本申請(qǐng)還提供一種顯示面板的制備方法,包括:
提供一陣列基板;
在所述陣列基板上形成陽(yáng)極層;
在所述陽(yáng)極層上形成像素定義層;
對(duì)所述像素定義層進(jìn)行蝕刻,形成第一通孔,所述第一通孔貫通所述像素定義層以暴露所述陽(yáng)極層;
在所述第一通孔中形成發(fā)光層;
在所述像素定義層上和所述發(fā)光層上覆蓋有陰極層,所述陰極層包括凹槽,所述凹槽位于所述第一通孔上;
在所述凹槽中采用噴墨打印方法打印填充層材料,形成填充層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





