[發(fā)明專利]一種PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法、裝置及存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010189379.0 | 申請日: | 2020-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN111473943B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王前程;趙一龍;趙玉新 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍國防科技大學(xué) |
| 主分類號: | G01M9/06 | 分類號: | G01M9/06;G01P5/26;G06T7/13;G06T7/136;G06T5/00 |
| 代理公司: | 中國和平利用軍工技術(shù)協(xié)會專利中心 11215 | 代理人: | 劉光德 |
| 地址: | 410073 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 piv 數(shù)據(jù)處理 方法 裝置 存儲 介質(zhì) | ||
1.一種PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法,用于在風(fēng)洞中對待測物進行流場測試,其中所述待測物具有壁面,其特征在于,該方法包括如下步驟:
在風(fēng)洞實驗段中無示蹤粒子的狀態(tài)下,開啟激光器,并捕獲包括壁面散射亮線的第一激光散射圖像;
逐漸降低激光能量直至最低激光能量,捕獲該最低激光能量下的包括壁面散射亮線的第二激光散射圖像;其中,所述最低激光能量使得相機捕獲到的壁面散射亮線在最寬處小于預(yù)定值;
對所述第二激光散射圖像進行邊緣檢測,以確定壁面位置;
根據(jù)精確確定的壁面位置,確定PIV流場中壁面附近實際觀測流場一側(cè)的第一層網(wǎng)格點的位置;
將實際觀測流場一側(cè)的第一層網(wǎng)格點的速度值賦值為零。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,所述最低激光能量使得相機捕獲到的壁面散射亮線在最寬處小于2個像素。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,采用Canny邊緣檢測算子對所述第二激光散射圖像進行邊緣檢測,以確定壁面位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,當(dāng)壁面處散射亮線沿流向不連續(xù)時,根據(jù)壁面的型面函數(shù),以及間斷前壁面位置與間斷后壁面位置補齊間斷處的型面位置參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法,其特征在于,還包括標(biāo)記所述第一層網(wǎng)格點位置索引的步驟。
6.一種存儲計算機可執(zhí)行指令的計算機可讀存儲介質(zhì),當(dāng)所述計算機可執(zhí)行指令由處理器執(zhí)行時,所述指令配置所述處理器執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理方法。
7.一種PIV近壁數(shù)據(jù)處理裝置,用于在風(fēng)洞中對待測物進行流場測試,其中所述待測物具有壁面,其特征在于,該裝置包括:
激光控制單元,用于控制激光器開啟,以及調(diào)節(jié)激光器發(fā)射的激光能量;
圖像采集單元,用于捕獲所述激光在所述壁面處散射產(chǎn)生的激光散射圖像;
其中,所述激光控制單元在風(fēng)洞實驗段中無示蹤粒子的狀態(tài)下開啟所述激光器,并逐漸降低激光能量直至最低激光能量,該最低激光能量使得所述圖像采集單元捕獲到的激光散射圖像中,壁面散射亮線在最寬處小于預(yù)定值;
邊緣檢測單元,用于對所述激光散射圖像進行邊緣檢測,以確定壁面精確位置;
網(wǎng)格點確定單元,該網(wǎng)格點確定單元根據(jù)精確確定的壁面位置,確定PIV流場中壁面附近實際觀測流場一側(cè)的第一層網(wǎng)格點的位置;
網(wǎng)格點標(biāo)記單元,用于將實際觀測流場一側(cè)的第一層網(wǎng)格點的速度值賦值為零。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理裝置,其特征在于,所述最低激光能量使得所述圖像采集單元捕獲到的激光散射圖像中,壁面散射亮線在最寬處小于2個像素。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的PIV近壁數(shù)據(jù)處理裝置,其特征在于,還包括壁面間斷補齊單元,該壁面間斷補齊單元能夠根據(jù)壁面的型面函數(shù),以及由所述邊緣檢測單元確定的間斷前壁面位置與間斷后壁面位置,補齊間斷處的型面位置參數(shù)。
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