[發明專利]雜配位銥配合物

有效

• 申請號: 202010189343.2
• 申請日: 2010-03-22
• 公開（公告）號: CN112028941B
• 公開（公告）日: 2023-08-29
• 發明（設計）人: 夏傳軍;R·孔;S·拉耶克
• 申請（專利權）人: 通用顯示公司
• 主分類號: C07F15/00
• 分類號: C07F15/00;C09K11/06;H10K85/30
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 王貴杰

1.化合物，其為具有下式的雜配位銥配合物:

其中X為O；

其中R₁、R₂、R₃和R₄可以表示單取代、二取代、三取代或四取代；并且

其中R₁、R₂、R₃和R₄各自獨立地選自氫和具有四個或更少的碳原子的烷基。

2.權利要求1的化合物，其中R₁和R₄獨立地選自氫和甲基。

3.權利要求1的化合物，其中R₂和R₃獨立地選自氫和甲基。

4.權利要求1的化合物，其中R₂和R₃為氫。

5.權利要求1的化合物，其中R₁、R₂、R₃和R₄獨立地選自氫和甲基。

6.權利要求1的化合物，其中R₁、R₂、R₃和R₄為氫。

7.權利要求1的化合物，其中該化合物選自：

8.權利要求1的化合物，其中該化合物選自：

9.第一器件，其包含有機發光器件，該有機發光器件包含：

陽極；

陰極；以及

位于該陽極和該陰極之間的有機層，該有機層包含化合物，該化合物為具有下式的雜配位銥配合物：

其中X為O；

其中R₁、R₂、R₃和R₄可以表示單取代、二取代、三取代或四取代；

其中R₁、R₂、R₃和R₄各自獨立地選自氫和具有四個或更少的碳原子的烷基。

10.權利要求9的器件，其中該第一器件為消費產品。

11.權利要求9的器件，其中該化合物選自：

12.權利要求9的器件，其中該化合物選自：

13.權利要求9的器件，其中該有機層為發光層并且具有下式的化合物為發光摻雜劑：

14.權利要求9的器件，其中該有機層包含主體。

15.權利要求14的器件，其中該主體包含三亞苯結構部分和二苯并噻吩結構部分。

16.權利要求15的器件，其中該主體具有下式：

其中R’₁、R’₂、R’₄和R’₆可以表示單取代、二取代、三取代或四取代，其中R'₃和R'₅可以表示單取代、二取代或三取代，并且其中R’₁、R’₂、R’₃、R’₄、R’₅和R’₆各自獨立地選自氫、烷基和芳基。