[發(fā)明專利]雜配位銥配合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010189343.2 | 申請日： | 2010-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN112028941B | 公開（公告）日： | 2023-08-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 夏傳軍;R·孔;S·拉耶克 | 申請（專利權(quán)）人： | 通用顯示公司 |
| 主分類號： | C07F15/00 | 分類號： | C07F15/00;C09K11/06;H10K85/30 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 王貴杰 |
| 地址： | 美國新*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 雜配位銥 配合 | ||
1.化合物，其為具有下式的雜配位銥配合物:
其中X為O；
其中R1、R2、R3和R4可以表示單取代、二取代、三取代或四取代；并且
其中R1、R2、R3和R4各自獨立地選自氫和具有四個或更少的碳原子的烷基。
2.權(quán)利要求1的化合物，其中R1和R4獨立地選自氫和甲基。
3.權(quán)利要求1的化合物，其中R2和R3獨立地選自氫和甲基。
4.權(quán)利要求1的化合物，其中R2和R3為氫。
5.權(quán)利要求1的化合物，其中R1、R2、R3和R4獨立地選自氫和甲基。
6.權(quán)利要求1的化合物，其中R1、R2、R3和R4為氫。
7.權(quán)利要求1的化合物，其中該化合物選自：
8.權(quán)利要求1的化合物，其中該化合物選自：
9.第一器件，其包含有機發(fā)光器件，該有機發(fā)光器件包含：
陽極；
陰極；以及
位于該陽極和該陰極之間的有機層，該有機層包含化合物，該化合物為具有下式的雜配位銥配合物：
其中X為O；
其中R1、R2、R3和R4可以表示單取代、二取代、三取代或四取代；
其中R1、R2、R3和R4各自獨立地選自氫和具有四個或更少的碳原子的烷基。
10.權(quán)利要求9的器件，其中該第一器件為消費產(chǎn)品。
11.權(quán)利要求9的器件，其中該化合物選自：
12.權(quán)利要求9的器件，其中該化合物選自：
13.權(quán)利要求9的器件，其中該有機層為發(fā)光層并且具有下式的化合物為發(fā)光摻雜劑：
14.權(quán)利要求9的器件，其中該有機層包含主體。
15.權(quán)利要求14的器件，其中該主體包含三亞苯結(jié)構(gòu)部分和二苯并噻吩結(jié)構(gòu)部分。
16.權(quán)利要求15的器件，其中該主體具有下式：
其中R’1、R’2、R’4和R’6可以表示單取代、二取代、三取代或四取代，其中R'3和R'5可以表示單取代、二取代或三取代，并且其中R’1、R’2、R’3、R’4、R’5和R’6各自獨立地選自氫、烷基和芳基。
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