[發明專利]污水處理系統及其應用以及污水處理方法

有效

• 申請號: 202010188959.8
• 申請日: 2020-03-17
• 公開（公告）號: CN111333271B
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 李娜;田濤;賀鋁;肖偉;郭小偉;何依琳;程昊;劉少杰
• 申請（專利權）人: 愛土工程環境科技有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F101/30
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 劉建榮

1.一種污水處理系統，其特征在于，包括依次連通的羥基氧化塘、生物濾床濕地、多級反硝化濾池和潛流濕地；

其中，污水依次流經羥基氧化塘、生物濾床濕地、多級反硝化濾池和潛流濕地；

羥基氧化塘可實現廢水初步硝化反硝化，同時促難降解性有機物氧化分解，易于被后續工藝去除；生物濾床濕地是利用種植植物的莖稈和表層填料對水中的污染物進行攔截、吸收和降解，同時利用生物濾壩內部填料及附著的微生物對污染物進行硝化反硝化降解，實現COD、SS、含氮化合物及磷的去除；多級反硝化濾池在完成反硝化過程中可實現同時去除懸浮固體（SS）和氮磷；潛流濕地主要通過植物根系和填料表面的微生物攔截吸收、填料的攔截和吸附以及植物的吸收共同作用去除污染物；

所述羥基氧化塘利用微納米氣泡技術進行曝氣。

2.根據權利要求1所述的污水處理系統，其特征在于，在沿水流方向上，所述羥基氧化塘包括相連通的第一反應區和第二反應區，所述第一反應區采用底部進水，在第一反應區內自下而上依次形成有氧、厭氧以及兼氧交替循環的環境；

所述第二反應區中采用微納米氣泡進行間歇曝氣；

所述第二反應區中含氧量不小于3mg/L且不大于8mg/L；

所述第二反應區中用于釋放微納米氣泡的管道設置在所述羥基氧化塘內，且距離所述羥基氧化塘底部的距離為0.3-0.5m。

3.根據權利要求2所述的污水處理系統，其特征在于，污水在所述第一反應區內的水力停留時間不小于8h且不大于72h，在第二反應區內的水力停留時間不小于4h且不大于24h；

所述第一反應區和所述第二反應區之間設置有隔斷墻，所述隔斷墻上設置有第一浮渣擋板；

所述第一浮渣擋板包括相互連接的第一豎直段、第一傾斜段和第三傾斜段，所述第一豎直段設置在所述隔斷墻朝向所述第一反應區的墻面上，所述第一傾斜段和第三傾斜段段朝向所述第一反應區設置，且在沿所述第一反應區的頂部至底部的方向上所述第一傾斜段逐漸遠離所述第一豎直段，所述第一傾斜段與所述第一豎直段之間的夾角為30-45°，在沿所述第一反應區的底部至頂部的方向上所述第三傾斜段逐漸遠離所述第一豎直段，所述第三傾斜段與所述第一豎直段之間的夾角為45~60°，第一傾斜段和第三傾斜段之間的縫隙為10~20cm；

所述第一豎直段靠近所述第一反應區的底部的一端距離所述隔斷墻頂端的距離為0.3-0.4m；

所述第二反應區包括第二浮渣擋板，所述第二浮渣擋板設置在所述第二反應區與所述隔斷墻相對設置的出水端墻上；

所述第二浮渣擋板包括相互連接的第二豎直段、第二傾斜段和第四傾斜段，所述第二豎直段設置在所述出水端墻朝向所述第二反應區的墻面上，所述第二傾斜段和第四傾斜段朝向所述第二反應區設置，且在沿所述第二反應區的頂部至底部的方向上所述第二傾斜段逐漸遠離所述第二豎直段，所述第二傾斜段與所述第二豎直段之間的夾角為30-45°，在沿所述第二反應區的底部至頂部的方向上所述第四傾斜段逐漸遠離所述第二豎直段，所述第四傾斜段與所述第二豎直段之間的夾角為45~60°，第二傾斜段與第四傾斜段之間的縫隙為10~20cm；

所述出水端墻上設置有出水口，所述第二豎直段靠近所述第二反應區底部的一端設置在所述出水口與所述第二反應區底部之間，且與所述出水口之間的距離為0.2-0.4m。

4.根據權利要求1-3任一項所述的污水處理系統，其特征在于，所述生物濾床濕地包括通過溢流堰相連的初級反應區和主反應區，所述初級反應區的水深為0.5-0.7m，所述主反應區的水深為0.7-1.5m；

所述初級反應區中種植挺水植物；

所述初級反應區的坡度為0.8-1.2%；

所述初級反應區內污水水力停水時間不小于6h且不大于5天；

所述主反應區中種植沉水植物；

所述主反應區的坡度為0.8-1.2%；

所述主反應區內污水水力停留時間不小于8h且不大于5天。