[發(fā)明專(zhuān)利]檢查用基板和檢查方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010185530.3
• 申請(qǐng)日: 2020-03-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111745313A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 古田健次
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社迪思科
• 主分類(lèi)號(hào): B23K26/70
• 分類(lèi)號(hào): B23K26/70
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 喬婉;于靖帥

提供檢查用基板和檢查方法，用于對(duì)激光束的漏光進(jìn)行檢查，以便定量地評(píng)價(jià)漏光所到達(dá)的區(qū)域。該檢查用基板用于對(duì)激光束的漏光進(jìn)行檢查，其中，該檢查用基板具有：供具有透過(guò)檢查用基板的波長(zhǎng)的激光束照射的一個(gè)面；與一個(gè)面相反的一側(cè)的另一個(gè)面；設(shè)置于另一個(gè)面上的間隔道；多條第1檢查用布線，它們?cè)诹硪粋€(gè)面上分別沿著間隔道配置于距離間隔道不同的距離處；以及多個(gè)第1電極墊，它們?cè)诹硪粋€(gè)面上在多條第1檢查用布線上分別設(shè)置兩個(gè)以上，并在多條第1檢查用布線上分別在沿著間隔道的方向上分開(kāi)而配置。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于對(duì)利用激光束來(lái)加工被加工物時(shí)所產(chǎn)生的激光束的漏光進(jìn)行檢查的檢查用基板以及使用該檢查用基板對(duì)激光束的漏光進(jìn)行檢查的檢查方法。

背景技術(shù)

已知有在由呈格子狀配置的多條分割預(yù)定線(即間隔道)劃分的各區(qū)域內(nèi)形成有半導(dǎo)體器件的圓盤(pán)狀的晶片。為了將晶片沿著間隔道進(jìn)行分割而制造半導(dǎo)體芯片，例如使用激光加工裝置。

例如使用激光加工裝置按照將對(duì)于晶片具有透過(guò)性的波長(zhǎng)的脈沖狀的激光束的聚光點(diǎn)定位于晶片的內(nèi)部的方式沿著晶片的正面?zhèn)鹊拈g隔道從晶片的背面?zhèn)日丈浼す馐?。由此，在聚光點(diǎn)附近產(chǎn)生多光子吸收，沿著間隔道形成機(jī)械強(qiáng)度降低的改質(zhì)層。然后，對(duì)晶片施加外力，從而以改質(zhì)層為起點(diǎn)而沿著間隔道將晶片分割。

在形成改質(zhì)層時(shí)，通常在晶片的不同的深度位置形成多個(gè)改質(zhì)層。例如將聚光點(diǎn)的深度位置定位于晶片的正面?zhèn)鹊囊?guī)定的深度位置，沿著一條間隔道照射激光束。通過(guò)沿著間隔道進(jìn)行一次激光束照射(即第1通行的激光束的照射)，從而形成第1層改質(zhì)層。

然后，在將聚光點(diǎn)的深度位置向背面?zhèn)纫苿?dòng)規(guī)定的距離之后，再次沿著相同的間隔道進(jìn)行一次激光束照射(即第2通行的激光束的照射)，從而形成第2層改質(zhì)層。同樣地，反復(fù)進(jìn)行將聚光點(diǎn)的深度位置向背面?zhèn)纫苿?dòng)規(guī)定的距離以及激光束的照射，在晶片的內(nèi)部形成多個(gè)(例如2～5個(gè))改質(zhì)層。

在形成改質(zhì)層時(shí)，激光束主要在被定位于規(guī)定的深度的聚光點(diǎn)處被晶片吸收，但有時(shí)激光束的一部分被位于比規(guī)定的深度位置靠正面?zhèn)鹊母馁|(zhì)層及從改質(zhì)層延伸的裂紋等折射或反射。

假如激光束的一部分被折射或反射而成為漏光(即，超過(guò)作為目標(biāo)的照射區(qū)域即間隔道而到達(dá)半導(dǎo)體器件的光)時(shí)，有時(shí)漏光到達(dá)形成于由多條間隔道劃分的晶片的正面?zhèn)鹊母鲄^(qū)域的半導(dǎo)體器件。在該情況下，擔(dān)心半導(dǎo)體器件被漏光損傷。因此，需要按照漏光不到達(dá)半導(dǎo)體器件的方式選定激光束的照射條件(即激光加工條件)。

因此，已知有如下的方法：在晶片的正面?zhèn)刃纬捎慑a(Sn)或油性墨等形成的包覆層之后，從晶片的背面?zhèn)日丈浼す馐?，確認(rèn)到達(dá)晶片的正面?zhèn)鹊穆┕?例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2017-216413號(hào)公報(bào)

但是，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1所記載的方法中，只不過(guò)能觀察到包覆層中的由于激光束的到達(dá)而變質(zhì)的區(qū)域，并不存在定量地評(píng)價(jià)漏光所到達(dá)的區(qū)域的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于該問(wèn)題點(diǎn)而完成的，其目的在于提供檢查用基板，其用于對(duì)激光束的漏光進(jìn)行檢查，以便定量地評(píng)價(jià)漏光所到達(dá)的區(qū)域。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，提供檢查用基板，其用于對(duì)激光束的漏光進(jìn)行檢查，其中，該檢查用基板具有：供具有透過(guò)該檢查用基板的波長(zhǎng)的該激光束照射的一個(gè)面；與該一個(gè)面相反的一側(cè)的另一個(gè)面；設(shè)定于該另一個(gè)面上的間隔道；多條第1檢查用布線，它們?cè)谠摿硪粋€(gè)面上分別沿著該間隔道配置于距離該間隔道不同的距離處；以及多個(gè)第1電極墊，它們?cè)谠摿硪粋€(gè)面上在該多條第1檢查用布線上分別設(shè)置兩個(gè)以上，并在該多條第1檢查用布線上分別在沿著該間隔道的方向上分開(kāi)而配置。優(yōu)選檢查用基板還具有多條第2檢查用布線，該多條第2檢查用布線在該另一個(gè)面上沿著該間隔道與該多條第1檢查用布線分開(kāi)，并且分別沿著該間隔道配置于距離該間隔道不同的距離處。