[發(fā)明專利]一種廢溶劑回收系統(tǒng)及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010185437.2
• 申請(qǐng)日: 2020-03-17
• 公開（公告）號(hào): CN111228837A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳浩;周勁松;陳學(xué)明;李道全;儲(chǔ)志兵;賀國倫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海森松制藥設(shè)備工程有限公司
• 主分類號(hào): B01D1/22
• 分類號(hào): B01D1/22;B01D1/30;B01D3/14;B01D3/32;B01D3/42;B01D5/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

本發(fā)明公開了一種廢溶劑回收系統(tǒng)及方法，其屬于廢溶劑回收利用技術(shù)領(lǐng)域，廢溶劑回收系統(tǒng)包括薄膜蒸發(fā)裝置、第一冷凝裝置、第一精餾塔、產(chǎn)品罐和第二冷凝裝置。薄膜蒸發(fā)裝置與盛有廢溶劑的廢液裝置連通，第一冷凝裝置分別與薄膜蒸發(fā)裝置和真空泵連通；第一精餾塔與第一冷凝裝置連通，第一精餾塔用于去除冷凝后的廢溶劑中的部分雜質(zhì)；產(chǎn)品罐與第一精餾塔連通，產(chǎn)品罐用于盛放經(jīng)第一精餾塔處理后的廢溶劑；第二冷凝裝置分別與第一精餾塔、真空泵和第一受液罐連通，第二冷凝裝置的與第一受液罐連通，第二冷凝裝置用于冷凝低沸點(diǎn)雜質(zhì)。本發(fā)明提供的廢溶劑回收系統(tǒng)處理后得到的產(chǎn)品的純度較高，雜質(zhì)含量較低。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及廢溶劑回收利用技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種廢溶劑回收系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)

廢溶劑通常是因?yàn)閾诫s有其他物質(zhì)而失去效果的液體，其可以包括鋰電池NMP廢液、液晶面板NMP廢液等，對(duì)廢溶劑進(jìn)行回收利用能夠避免能源的浪費(fèi)。

現(xiàn)有技術(shù)中，通常采用回收設(shè)備對(duì)廢溶劑進(jìn)行回收利用。該回收設(shè)備包括溶劑回收塔、再沸器、一級(jí)冷凝器、二級(jí)冷凝器、換熱器、塔釜泵和產(chǎn)品罐。經(jīng)沉降后的廢溶劑連續(xù)進(jìn)入溶劑回收塔，溶劑回收塔塔頂壓力為1KPa，塔頂氣相采出進(jìn)入一級(jí)冷凝器，塔釜采出殘油。一級(jí)冷凝器為分凝器，冷凝液相一部分回流至溶劑回收塔，一部分作為產(chǎn)品采出至產(chǎn)品罐。未冷凝氣相進(jìn)入二級(jí)冷凝器。來自產(chǎn)品罐和一級(jí)冷凝器的氣相經(jīng)二級(jí)冷凝器冷凝冷卻后，液相進(jìn)入產(chǎn)品罐，不凝氣進(jìn)入真空系統(tǒng)。真空系統(tǒng)出口尾氣分兩路，一路進(jìn)入吸附裝置進(jìn)行吸附后直接排放；另一路進(jìn)入TAR系統(tǒng)。TAR系統(tǒng)出口高溫尾氣一路進(jìn)入換熱器與去離子水換熱后返回主管路進(jìn)入后續(xù)系統(tǒng)。經(jīng)換熱器與TAR系統(tǒng)出口高溫尾氣換熱后的去離子水進(jìn)入再沸器作為溶劑回收塔的熱源。

但是，廢溶劑被該回收設(shè)備處理后，由于僅通過一個(gè)溶劑回收塔進(jìn)行處理，導(dǎo)致廢溶劑中仍摻雜有雜質(zhì)，進(jìn)而導(dǎo)致從廢溶劑中分離出的產(chǎn)品的純度較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種廢溶劑回收系統(tǒng)及方法，其處理后得到的產(chǎn)品的純度較高，雜質(zhì)含量較低。

如上構(gòu)思，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：

一種廢溶劑回收系統(tǒng)，包括：

薄膜蒸發(fā)裝置，所述薄膜蒸發(fā)裝置與盛有廢溶劑的廢液裝置連通，所述薄膜蒸發(fā)裝置用于去除冷凝后的所述廢溶劑中的固體雜質(zhì)；

第一冷凝裝置，所述第一冷凝裝置分別與所述薄膜蒸發(fā)裝置和真空泵連通，所述第一冷凝裝置用于冷凝經(jīng)所述薄膜蒸發(fā)裝置處理后的廢溶劑；

第一精餾塔，所述第一精餾塔與所述第一冷凝裝置連通，所述第一精餾塔用于去除所述廢溶劑中的部分雜質(zhì)；

產(chǎn)品罐，所述產(chǎn)品罐與所述第一精餾塔連通，所述產(chǎn)品罐用于盛放經(jīng)所述第一精餾塔處理后的廢溶劑；

第二冷凝裝置，所述第二冷凝裝置分別與所述第一精餾塔和所述真空泵連通，所述第二冷凝裝置用于冷凝低沸點(diǎn)雜質(zhì)；

第一受液罐，所述第一受液罐與所述第二冷凝裝置連通，所述第一受液罐用于容置所述低沸點(diǎn)雜。

可選地，還包括第二精餾塔、第三冷凝裝置和第二受液罐，所述第二精餾塔分別與所述第一精餾塔、所述第三冷凝裝置和所述第二受液罐連通，所述第三冷凝裝置還分別與所述產(chǎn)品罐和所述真空泵連通。

可選地，所述第一精餾塔包括彼此連通的第一塔底釜和第一塔體，與所述第一塔底釜連通的第一再沸器，及位于所述第一塔底釜和所述第一再沸器之間的第一循環(huán)泵，所述第一冷凝裝置與所述第一塔體連通，所述第二精餾塔與所述第一塔底釜連通。

可選地，所述第二精餾塔包括彼此連通的第二塔底釜和第二塔體，與所述第二塔底釜連通的第二再沸器，及位于所述第二塔底釜和所述第二再沸器之間的第二循環(huán)泵，第一精餾塔與所述第二塔底釜連通，所述第三冷凝裝置與所述第二塔體連通，所述第二受液罐與所述第二塔底釜連通。