[發(fā)明專利]一種鍍金工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010183648.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111372390A | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 侯露璐;蘇春齊;王虎;周俊杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信泰電子(西安)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/28 | 分類號(hào): | H05K3/28 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 710119 陜西省西安市*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍金 工藝 | ||
1.一種鍍金工藝,其特征在于,包含以下步驟:
(1)外層處理:對(duì)覆銅板進(jìn)行蝕刻,形成線路圖形部分、金手指部分和金手指引線部分;
(2)一次干膜處理:在溫度為100-110℃下向覆銅板上粘貼干膜,干膜覆蓋覆銅板的表面,然后進(jìn)行曝光顯影,去掉金手指部分的干膜,使金手指裸露;
(3)鍍金處理:將覆銅板浸入鍍金液中,對(duì)金手指電鍍金層;
(4)二次干膜處理:在溫度為100-110℃下向金層上粘貼干膜,干膜覆蓋覆銅板表面,然后進(jìn)行曝光顯影,去除金手指引線部分的干膜;
(5)蝕刻處理:向金手指引線部分噴淋蝕刻液,蝕刻金手指引線;
(6)去膜處理:向覆銅板表面噴淋堿液,去除覆銅板表面的干膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于,所述鍍金工藝在步驟(1)與步驟(2)之間還包括:保護(hù)膜處理,以在金手指部分和金手指引線部分形成保護(hù)膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述保護(hù)膜是由環(huán)氧樹脂噴涂而成,將環(huán)氧樹脂噴涂在金手指部分和金手指引線部分,于78-82℃下烘烤28-32min后得保護(hù)膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于,所述鍍金工藝在步驟(3)與步驟(4)之間還包括:保護(hù)層處理,以在金手指部分形成保護(hù)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述保護(hù)層是由環(huán)氧樹脂噴涂而成,將環(huán)氧樹脂噴涂在金手指部分,于78-82℃下烘烤28-32min后得保護(hù)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于,所述步驟(1)和步驟(2)之間還包括:阻焊處理,利用阻焊油墨覆蓋部分非鍍金區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述步驟(3)的鍍金液中金離子的濃度為2.7-3.3g/L,電流密度為0.86-0.88ASD,通電時(shí)間為3-4min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述步驟(3)中形成的金層厚度為0.76-0.83μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述步驟(5)中的蝕刻液為鹽酸溶液,濃度為2.5-3.5 mol/L,噴淋壓力為0.1-0.22 MPa,噴淋時(shí)間為15-20s。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍金工藝,其特征在于:所述步驟(6)中的堿液為氫氧化鈉溶液,質(zhì)量濃度為4-7%。
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