[發明專利]層疊體及其制法、光學膜層的形成方法、偏光膜及其制法、液晶顯示元件的制法

在審

• 申請號: 202010183002.4
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111830749A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 樫下幸志;大場佑樹
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02B5/30;C09K19/56
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種層疊體，其為具有支撐體、形成于所述支撐體上的液晶取向膜、以及形成于所述液晶取向膜上的光學膜層的層疊體，并且

所述液晶取向膜是使用液晶取向劑而形成，所述液晶取向劑含有選自由自由基捕捉劑及表面改質劑所組成的群組中的至少一種，

所述光學膜層是使液晶組合物硬化而獲得。

2.根據權利要求1所述的層疊體，其中所述層疊體是用以將所述層疊體所具有的所述光學膜層轉印于被粘附體而在所述被粘附體上形成所述光學膜層。

3.根據權利要求1或2所述的層疊體，其中所述液晶取向劑含有具有光取向性基的聚合物。

4.根據權利要求1或2所述的層疊體，其中所述液晶取向劑含有具有肉桂酸結構的聚合物。

5.根據權利要求1或2所述的層疊體，其中所述液晶組合物含有相位差顯示出逆波長分散性的聚合性液晶。

6.一種層疊體的制造方法，其制造層疊體，所述層疊體具有支撐體、形成于所述支撐體上的液晶取向膜、以及形成于所述液晶取向膜上的光學膜層，所述層疊體的制造方法包括：

將液晶取向劑涂布于所述支撐體上來形成涂膜的工序，所述液晶取向劑含有選自由聚合抑制劑及表面改質劑所組成的群組中的至少一種；

通過對所述涂膜賦予液晶取向能力而在所述支撐體上形成所述液晶取向膜的工序；以及

通過使液晶組合物硬化而在所述液晶取向膜上形成所述光學膜層的工序。

7.一種光學膜層的形成方法，其為在被粘附體上形成光學膜層的方法，并且包括：

將根據權利要求1至5中任一項所述的層疊體所具有的光學膜層轉印于所述被粘附體上的工序。

8.一種帶有相位差膜的偏光膜的制造方法，其為制造帶有相位差膜的偏光膜的方法，并且包括：

將根據權利要求1至5中任一項所述的層疊體所具有的光學膜層轉印于偏光膜上的工序。

9.一種帶有相位差膜的偏光膜，其是將根據權利要求1至5中任一項所述的層疊體所具有的光學膜層轉印于偏光膜上而成。

10.一種液晶顯示元件的制造方法，其為制造液晶顯示元件的方法，并且包括：

構筑液晶單元的工序，所述液晶單元具有相向配置的一對基板與設置于所述一對基板間的液晶層；以及

將根據權利要求1至5中任一項所述的層疊體所具有的光學膜層轉印于所述液晶單元的所述一對基板的至少一者的外側的工序。

11.一種層疊體的制造方法，其制造層疊體，所述層疊體具有支撐體、形成于所述支撐體上的液晶取向膜、以及形成于所述液晶取向膜上的光學膜層且顯示出光學各向異性，所述層疊體的制造方法包括：

將液晶取向劑涂布于所述支撐體上來形成涂膜的工序；

通過對所述涂膜賦予液晶取向能力而在所述支撐體上形成所述液晶取向膜的工序；以及

通過使液晶組合物硬化而在所述液晶取向膜上形成所述光學膜層的工序，

形成所述涂膜的工序為通過在25℃～100℃的范圍內的溫度下進行加熱而在所述支撐體上形成所述涂膜的工序。

12.根據權利要求11所述的層疊體的制造方法，其中所述液晶取向劑含有選自由聚酰亞胺、及具有保護基的胺系硬化劑所組成的群組中的至少一種。