[發明專利]微位移測量裝置有效
| 申請號: | 202010182848.6 | 申請日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN113405460B | 公開(公告)日: | 2023-04-14 |
| 發明(設計)人: | 賴文清;秦超宇;卓俞安 | 申請(專利權)人: | 晉城三贏精密電子有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 趙文曲;饒婕 |
| 地址: | 048000 山西省晉城市開*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 位移 測量 裝置 | ||
1.一種微位移測量裝置,包括光柵尺、圖像處理單元及數據處理單元,其特征在于,所述光柵尺包括光源以及依次設置在所述光源光路上的準直裝置、主光柵、副光柵、影像感測芯片;所述主光柵及副光柵分別包括第一圖案以及位于所述第一圖案左右兩側的多個第二圖案,所述主光柵及所述副光柵兩者之一能相對另一個運動發生位移,所述光源發出的光能經過所述準直裝置、主光柵及副光柵后能在所述影像感測芯片上形成圖像,所述圖像處理單元用于對所述圖像進行處理,所述數據處理單元用于根據所述圖像處理單元處理的結果計算得到所述位移;
其中,所述第一圖案及所述第二圖案共同作為圖案部,所述第一圖案與所述第二圖案之間的間隔以及相鄰的第二圖案之間的間隔為空白部,所述圖案部與所述空白部兩者之一能透光,另一者不能透光;所述第一圖案及第二圖案為在所述主光柵及所述副光柵上開設形成的不同形狀的凹槽。
2.如權利要求1所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述第一圖案與鄰近的所述第二圖案之間的間距等于每兩個相鄰的第二圖案之間的間距。
3.如權利要求1所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述第一圖案為菱形凹槽、梯形凹槽,三角形凹槽、五角形凹槽或者圓形凹槽中的任意一種,所述第二圖案為方形凹槽或者圓形凹槽中的一種。
4.如權利要求1所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述第一圖案及第二圖案為在所述主光柵及副光柵表面涂布黑漆形成。
5.如權利要求1所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述光柵尺還包括印刷電路板,所述印刷電路板包括第一線路板、第二線路板、垂直連接所述第一線路板及第二線路板的可撓曲的連接部以及與所述第一線路板連接的延伸部,所述第一線路板與第二線路板正對設置,所述影像感測芯片設置于所述第一線路板,所述光源設置于所述第二線路板,所述延伸部設置有電連接器。
6.如權利要求5所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述光柵尺還包括底座,所述底座包括上表面、下表面、連接所述上表面與所述下表面的前側表面以及連接所述上表面、下表面的左側面以及右側面,所述上表面朝向下表面凹設形成容納槽,所述前側表面向開設形成貫穿孔,所述貫穿孔與所述容納槽相通,所述第一線路板設置于所述容納槽,所述延伸部從所述貫穿孔中伸出至所述容納槽外;所述底座還包括插槽,所述插槽從左側面延伸貫穿至右側面,所述主光柵與所述副光柵均從所述插槽插設且所述主光柵及副光柵的兩端均位于所述插槽外。
7.如權利要求6所述的微位移測量裝置,其特征在于,所述光柵尺還包括設置于所述底座上的中框,所述中框包括第一表面、相對所述第一表面的第二表面以及凸出于所述第二表面的凸臺,所述中框開設有位于所述凸臺一側的條形槽,所述凸臺中央形成有臺階部以及位于臺階部中央的通光孔,所述通光孔包括承載臺,所述準直裝置設置于所述承載臺;所述可撓曲的連接部穿過所述條形槽以使所述第二線路板與所述第二表面間隔設置,所述光源設置于所述第二線路板上且位于所述臺階部,所述光源發出的光束通過所述通光孔成像于所述影像感測芯片。
8.如權利要求7所述的微位移測量裝置,其特征在于,還包括蓋體,所述蓋體包括朝向所述中框的底表面,所述底表面凹設有凹部,所述蓋體蓋設于所述中框,所述第二線路板收容于所述凹部。
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