[發明專利]檢測裝置及光刻設備在審
| 申請號： | 202010182521.9 | 申請日： | 2020-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN113406086A | 公開（公告）日： | 2021-09-17 |
| 發明（設計）人： | 韓雪山;申永強 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88;G01N21/956;G03F1/84;G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思捷知識產權代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 檢測 裝置 光刻 設備 | ||
1.一種檢測裝置，其特征在于，所述檢測裝置包括：發光單元、遮光單元和探測單元；
所述發光單元用于提供光線；
所述遮光單元用于控制所述光線的通過，所述光線經過所述遮光單元后，部分所述光線入射至待檢測結構并經所述待檢測結構散射形成散射信號光；
所述探測單元用于接收所述散射信號光，以檢測所述待檢測結構的顆粒度。
2.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述遮光單元為吸光膜、濾光片或者遮光罩。
3.如權利要求2所述的檢測裝置，其特征在于，所述吸光膜的材質為金屬。
4.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述遮光單元固定在所述待檢測結構的上方，并且與所述待檢測結構之間存在間隔。
5.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述待檢測結構包括掩模板、玻璃基板和/或硅片。
6.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述發光單元為激光發射器。
7.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述探測單元為探測器、面陣相機和線陣相機中的至少一種。
8.如權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于，所述待檢測結構呈水平設置，所述發光單元提供的所述光線與豎直方向的夾角介于40°～85°。
9.如權利要求8所述的檢測裝置，其特征在于，所述探測單元接收的所述散射信號光與所述豎直方向的夾角介于50°～70°。
10.一種光刻設備，其特征在于，所述光刻設備包括如權利要求1～9中任一項所述的檢測裝置。
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