[發明專利]電子裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 202010181524.0
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111367108B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發明（設計）人: 蘇志中;陳亦偉
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1337;G03B17/12;G03B30/00
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 李曄;李琛

本公開提供一種電子裝置，包括第一基板、第二基板、緩沖層、有源陣列、像素陣列、保護層以及配向膜。第一基板具有透光區、顯示區以及的周邊區，其中周邊區圍繞顯示區，顯示區圍繞透光區。第二基板與第一基板相對設置。緩沖層設置于第二基板上。保護層設置于緩沖層上，且保護層在第一基板上的投影與透光區錯開。有源陣列設置于緩沖層上。像素陣列設置于有源陣列上，并與有源陣列電性連接。配向膜共形地設置于保護層、緩沖層及第二基板上。

技術領域

本公開涉及一種電子裝置及其制造方法。

背景技術

現今手機面板除了省電、高畫面品質外，高屏幕的屏占比已儼然成為目前手機屏幕顯示器的標準規格。因此，如何再縮減屏幕區被其他功能所占用的區域面積為達高屏占比屏幕的改良方向。以前鏡頭孔與感測器孔為例，目前可行的方式為將基板挖洞讓前鏡頭與感測器置入。然而，此方式需要通過玻璃鉆孔以及于孔洞周邊進行封膠工藝，使得制造成本提高并導致良率下降。

發明內容

本公開的一技術態樣為一種電子裝置。

在本公開一實施方式中，電子裝置包括第一基板、第二基板、緩沖層、有源陣列、像素陣列、保護層以及配向膜。第一基板具有顯示區以及圍繞顯示區的周邊區，其中顯示區具有透光區。第二基板與第一基板相對設置。緩沖層設置于第二基板上。保護層設置于緩沖層上，且保護層在第一基板上的投影與透光區錯開。有源陣列設置于緩沖層上。像素陣列設置于有源陣列上，并與有源陣列電性連接。配向膜共形地設置于保護層、緩沖層及第二基板上。

在本公開一實施方式中，配向膜包括第一部分以及第二部分。第一部分在第二基板上的投影與顯示區重疊，第二部分在第二基板上的投影與透光區重疊，第一部分與第二基板間的距離大于第二部分與第二基板間的距離。

在本公開一實施方式中，緩沖層在第二基板上的投影與透光區錯開。

在本公開一實施方式中，緩沖層的厚度大于等于1500埃(Angstrom,A)且小于等于3000埃。

在本公開一實施方式中，緩沖層還包括第一子層以及第二子層，第一子層具有大于等于500埃且小于等于1350埃的厚度，且第一子層的材料為氮化硅，第二子層具有大于等于1000埃且小于等于1650埃的厚度，且第二子層的材料為氧化硅。

在本公開一實施方式中，緩沖層具有第一部分及第二部分，第一部分在第二基板上的投影與顯示區重疊，第二部分在第二基板上的投影與透光區重疊，且第二部分的厚度小于第一部分的厚度。

在本公開一實施方式中，緩沖層的折射率為大于1.48且小于1.6，且緩沖層的消光系數為大于0且小于10^-3。

在本公開一實施方式中，緩沖層的折射率為大于1.6，且緩沖層的消光系數為大于10^-3。

在本公開一實施方式中，緩沖層的第二部分與配向膜的總厚度為大于等于500埃且小于等于1000埃。

在本公開一實施方式中，電子裝置還包括攝像元件，朝向第二基板，且攝像元件在第二基板的投影與透光區重疊。

在本公開一實施方式中，電子裝置還包括感測元件，朝向第二基板，且感測元件在第二基板的投影與透光區重疊。

本公開的另一技術態樣為一種電子裝置的制造方法，包括形成緩沖層于第二基板上；形成有源陣列及像素陣列及保護層于緩沖層上；形成開口于緩沖層；形成配向膜于像素陣列及開口上；以及填充液晶層于第一基板與第二基板之間。

在本公開一實施方式中，開口形成于保護層及緩沖層。

在本公開一實施方式中，形成有源陣列及像素陣列與形成開口為同時執行。

在本公開一實施方式中，配向膜為共形地形成于保護層及緩沖層上。