[發(fā)明專利]一種鑲嵌裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010181196.4
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111231348A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 姚雪飛;牛彥飛;李處來;閆方清;王路路;王為路;杜希輝;張雷
• 申請（專利權(quán)）人: 山東豪邁機械科技股份有限公司
• 主分類號: B29C65/64
• 分類號: B29C65/64;B29C65/00;B29C65/78
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 朱立鳴

1.一種鑲嵌裝置，用于對零件進行鑲嵌操作，其特征在于，所述鑲嵌裝置包括：

鑲嵌部分，所述鑲嵌部分包括鑲嵌頭，在所述鑲嵌頭中形成有沖推孔，所述沖推孔中能夠容納所述零件，所述鑲嵌部分還設(shè)置有沖推件，用于沖推所述沖推孔中的所述零件；以及

出料部分，所述出料部分與所述鑲嵌部分相連接，包括頭部和從所述頭部延伸出來的出料端，在所述出料端中形成有第一通道，所述出料部分還包括阻擋件，所述阻擋件具備與所述第一通道相連通的第二通道；

其中，所述阻擋件能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換，在所述第一狀態(tài)中，所述第二通道的至少一部分的截面尺寸小于所述零件的截面尺寸，以阻止所述零件通過所述第二通道，而在所述第二狀態(tài)中，所述第二通道的所有部分的截面尺寸等于或大于所述零件的截面尺寸，從而允許所述零件通過所述第二通道。

2.如權(quán)利要求1所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述阻擋件包括阻擋件基部和連接在所述阻擋件基部上的夾持部，所述第二通道形成在所述夾持部中，并且所述夾持部為可彈性變形的，從而能夠在所述第一狀態(tài)和所述第二狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換。

3.如權(quán)利要求2所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述夾持部由至少兩個彈性板片所組成。

4.如權(quán)利要求2所述的鑲嵌裝置，其特征在于，在所述頭部中形成有從外周表面延伸到所述第一通道中的通孔，在所述通孔中設(shè)置有施力組件，所述施力組件在所述夾持部上施加力，以將所述夾持部偏置在所述第一狀態(tài)中。

5.如權(quán)利要求4所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述施力組件包括：

施力塊，所述施力塊抵接在所述夾持部上；

施力彈性件，所述施力彈性件與所述施力塊相連，并在所述施力塊上施加彈力；以及

夾緊力調(diào)節(jié)件，所述夾緊力調(diào)節(jié)件可調(diào)節(jié)地插入在所述通孔中，并抵接所述施力彈性件。

6.如權(quán)利要求1所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述出料部分上設(shè)置有零件檢測裝置，用于檢測在所述第二通道中是否存在所述零件。

7.如權(quán)利要求6所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述零件檢測裝置包括光傳感器，并且所述阻擋件包括阻擋件基部和連接在所述阻擋件基部上的夾持部，所述第二通道形成在所述夾持部中，并且所述夾持部為可彈性變形的，從而能夠在所述第一狀態(tài)和所述第二狀態(tài)之間轉(zhuǎn)換，其中，在所述夾持部上設(shè)置有透光孔，所述光傳感器與所述透光孔對準(zhǔn)。

8.如權(quán)利要求1所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述鑲嵌部分上還連接有驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置與所述沖推件相連接，驅(qū)動所述沖推件在所述沖推孔中往復(fù)移動。

9.如權(quán)利要求8所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述鑲嵌部分可相對運動地與所述驅(qū)動裝置相連接，并且在所述鑲嵌部分與所述驅(qū)動裝置之間設(shè)置有彈性件，所述彈性件朝著遠離所述驅(qū)動裝置的方向偏置所述鑲嵌部分。

10.如權(quán)利要求9所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述鑲嵌部分上還設(shè)置有檢測開關(guān)，所述檢測開關(guān)檢測所述鑲嵌部分相對于所述驅(qū)動裝置的位置。

11.如權(quán)利要求1所述的鑲嵌裝置，其特征在于，所述鑲嵌裝置上還連接有進料管，所述進料管至少與所述第二通道相連通。