[發明專利]一種蝕刻設備

在審

• 申請號: 202010180756.4
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111304655A
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 溫質康
• 申請（專利權）人: 福建華佳彩有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務所(普通合伙) 35219
• 代理人: 徐劍兵;張忠波

1.一種蝕刻設備，其特征在于，包括：蝕刻槽、上極板、下極板和可變電源，上極板和下極板分別設置在蝕刻槽的上下底面，蝕刻槽用于容置蝕刻液且內部用于放置待蝕刻基板，可變電源與上下極板連接，可變電源通過調節上極板和下極板的電壓來控制蝕刻槽的蝕刻液中蝕刻出的離子在待蝕刻基板位置的濃度。

2.根據權利要求1所述的一種蝕刻設備，其特征在于，還包括第一檢測單元，第一檢測單元設置在蝕刻槽的側壁上且靠近待蝕刻基板位置，第一檢測單元用于檢測蝕刻液中蝕刻出的離子在待蝕刻基板位置的濃度。

3.根據權利要求2所述的一種蝕刻設備，其特征在于，還包括第二檢測單元，第二檢測單元設置在蝕刻槽的側壁且在第一檢測單元上方。

4.根據權利要求2或3所述的一種蝕刻設備，其特征在于，還包括控制器，控制器分別與第一檢測單元和可變電源連接，控制器用于獲取第一檢測單元數據并根據第一檢查單元數據改變可變電源的電壓。

5.根據權利要求4所述的一種蝕刻設備，其特征在于，控制器用于在第一檢測單元檢測到的蝕刻出的離子大于預設值后開啟可變電源的電壓來降低蝕刻出的離子在待蝕刻基板位置的濃度。

6.根據權利要求4所述的一種蝕刻設備，其特征在于，所述控制器為單片機。

7.根據權利要求4所述的一種蝕刻設備，其特征在于，還包括檢測計算機，計算機分別與可變電源和控制器連接。

8.根據權利要求1所述的一種蝕刻設備，其特征在于，蝕刻出的離子為銅離子。