[發(fā)明專利]顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010180669.9 | 申請日： | 2020-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN111258123A | 公開（公告）日： | 2020-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳興武 | 申請（專利權(quán)）人： | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板，其特征在于，包括對盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，以及位于所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；所述液晶層包括混合設(shè)置的液晶分子和手性劑；所述顯示面板還包括設(shè)置于像素電極、以及位于相鄰所述像素電極之間的黑色矩陣；所述像素電極相互間形成有非透光區(qū)域；所述像素電極部分邊緣因所述手性劑導(dǎo)致所述液晶分子旋轉(zhuǎn)方向不同而形成有暗紋區(qū)域；且所述黑色矩陣覆蓋所述非透光區(qū)域和所述暗紋區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素電極包括十字型主干電極、斜置型分支電極以及封口電極；所述十字型主干電極的軀干部與所述斜置型分支電極的一端連接；所述封口電極與所述斜置型分支電極的另一端和所述十字型主干電極的端部連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述液晶分子的螺距為盒厚的2～7倍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板上設(shè)置有第一配向?qū)樱凰霾誓せ迳显O(shè)置有第二配向?qū)樱凰龅谝慌湎驅(qū)优c所述第二配向?qū)訉?yīng)設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素電極設(shè)置于所述陣列基板上；所述彩膜基板上依次設(shè)置有彩色濾光層和公共電極層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述彩膜基板面向所述陣列基板的一側(cè)形成有支撐柱；所述支撐柱的高度小于或者等于所述液晶層的厚度。
7.一種顯示面板，其特征在于，包括對盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，以及位于所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；所述液晶層包括混合設(shè)置的液晶分子和手性劑；所述顯示面板還包括設(shè)置于像素電極、以及位于相鄰所述像素電極之間的黑色矩陣；所述像素電極相互間形成有非透光區(qū)域；所述像素電極部分邊緣因所述手性劑導(dǎo)致所述液晶分子旋轉(zhuǎn)方向不同而形成有暗紋區(qū)域；
其中，所述像素電極被配置為對稱結(jié)構(gòu)圖案，以及所述手性劑被配置為右旋手性劑時(shí)，所述黑色矩陣錯(cuò)位覆蓋所述非透光區(qū)域和所述暗紋區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板，其特征在于，當(dāng)四個(gè)相鄰的所述像素電極呈矩形排列時(shí)，所述黑色矩陣包括由上至下依次相接的第一垂直黑矩陣、第二垂直黑矩陣、第三垂直黑矩陣以及第四垂直黑矩陣，和由左至右依次相接的第一水平黑矩陣、第二水平黑矩陣、第三水平黑矩陣以及第四水平黑矩陣；其中，相對于垂直中心線來說，所述第一垂直黑矩陣左偏，所述第二垂直黑矩陣右偏，所述第三垂直黑矩陣左偏，所述第四垂直黑矩陣右偏；相對于水平中心線來說，所述第一水平黑矩陣下偏，所述第二水平黑矩陣上偏，所述第三水平黑矩陣下偏，所述第四水平黑矩陣上偏。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板，其特征在于，當(dāng)四個(gè)相鄰的所述像素電極呈矩形排列時(shí)，所述黑色矩陣包括由上至下依次相接的第一垂直黑矩陣、第二垂直黑矩陣、第三垂直黑矩陣以及第四垂直黑矩陣，和由左至右依次相接的第一水平黑矩陣、第二水平黑矩陣、第三水平黑矩陣以及第四水平黑矩陣；其中，相對于垂直中心線來說，所述第一垂直黑矩陣右偏，所述第二垂直黑矩陣左偏，所述第三垂直黑矩陣右偏，所述第四垂直黑矩陣左偏；相對于水平中心線來說，所述第一水平黑矩陣上偏，所述第二水平黑矩陣下偏，所述第三水平黑矩陣上偏，所述第四水平黑矩陣下偏。
10.一種顯示面板，其特征在于，包括對盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，以及位于所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；所述液晶層包括混合設(shè)置的液晶分子和手性劑；所述顯示面板還包括設(shè)置于像素電極、以及位于相鄰所述像素電極之間的黑色矩陣；所述像素電極相互間形成有非透光區(qū)域；所述像素電極部分邊緣因所述手性劑導(dǎo)致所述液晶分子旋轉(zhuǎn)方向不同而形成有暗紋區(qū)域；
其中，所述像素電極被配置為非對稱結(jié)構(gòu)圖案，以及所述手性劑被配置為左旋手性劑時(shí)，位于所述暗紋區(qū)域中的所述分支電極和所述封口電極設(shè)置為加寬型像素電極，所述黑色矩陣對稱覆蓋所述非透光區(qū)域和所述暗紋區(qū)域。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
