[發(fā)明專利]儲液容器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010180599.7 | 申請日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN111716911B | 公開(公告)日: | 2022-10-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 飯沼啟輔;楠城達(dá)雄;高橋亙;宇田川健太 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/175 | 分類號: | B41J2/175 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 賈金巖 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 容器 | ||
1.一種儲液容器,其用于儲存液體并經(jīng)由管接收來自主罐的液體,所述管具有端部,所述端部具有待與所述儲液容器連接的連接部分,所述儲液容器包括:
殼體構(gòu)件;以及
蓋構(gòu)件,其覆蓋殼體構(gòu)件的頂部開口,
其中,所述蓋構(gòu)件具有作為凹部的凹入空間,所述凹入空間向殼體構(gòu)件的內(nèi)部突出;
液體供應(yīng)口,其將被插入到連接部分以便接收來自所述主罐的液體,所述液體供應(yīng)口形成在凹入空間中以在垂直于凹入空間的底表面的方向上延伸并且具有位于蓋構(gòu)件的頂表面下方的高度處的前端;以及
密封構(gòu)件,其被施加到所述蓋構(gòu)件的頂表面以覆蓋包含所述液體供應(yīng)口的凹入空間,所述密封構(gòu)件具有形成在覆蓋所述凹入空間的區(qū)域中的切痕部分,
其中,設(shè)置到密封構(gòu)件的所述切痕部分包括切痕線段,所述切痕線段設(shè)置成從對應(yīng)于所述液體供應(yīng)口的中心點徑向延伸,
其中,所述切痕線段具有大于所述連接部分的前端的外徑且不小于所述凹入空間的開口直徑的0.8倍的長度,并且
其中,所述凹入空間具有大于所述凹入空間的開口直徑的一半的深度以便在所述液體供應(yīng)口連接到連接部分的情況容納所述連接部分,并且所述密封構(gòu)件具有不大于形成在所述連接部分的外周表面和所述凹入空間的內(nèi)周表面之間的間隙的厚度以便能夠接收密封構(gòu)件的碎片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中
所述切痕線段被劃分成不少于四個。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中
所述切痕線段被等角間隔地劃分以從作為中心的液體供應(yīng)口徑向延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中
在以所述切痕部分中的中心點為中心的預(yù)定區(qū)域中不形成切痕線段。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中
所述密封構(gòu)件由合成紙形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,還包括記錄元件板,所述記錄元件板用于向待被從所述儲液容器供應(yīng)的液體賦予排出能量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中所述液體供應(yīng)口設(shè)置為多個并且所述密封構(gòu)件具有與液體供應(yīng)口的數(shù)量對應(yīng)的多個所述切痕部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中所述蓋構(gòu)件的頂表面上形成有連通槽,使得所述連通槽從所述凹入空間開始圍繞所述凹入空間蜿蜒并且與所述凹入空間連通,并且其中所述密封構(gòu)件被施加成覆蓋除了連通槽的一個端部之外的蓋構(gòu)件的全部頂表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的儲液容器,其中所述切痕線段被劃分成六個。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的儲液容器,其中所述凹入空間被形成為具有圓形開口的凹部。
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