[發明專利]分析裝置

在審

• 申請號: 202010179993.9
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111751299A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發明（設計）人: 富永義樹;小松真也
• 申請（專利權）人: 古野電氣株式會社
• 主分類號: G01N21/27
• 分類號: G01N21/27;G01N21/01
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 高迪

1.一種分析裝置，具備：

比色皿臺，通過將比色皿的列以環狀配置而成；

驅動部，使所述比色皿的列沿環狀方向反復地間歇旋轉；

測光部，向所述間歇旋轉的期間中經過測光位置的各比色皿照射光，對來自經過該測光位置的各比色皿的被照射區域的出射光進行測光；

分析部，基于所述測光而得到的測光數據，對所述比色皿的收容物進行分析；

可測定區域檢測部，在所述各比色皿的所述被照射區域之中，將伴隨著所述比色皿的所述經過而所述出射光的變化量為規定變化量以下的所述比色皿的區域，檢測為所述各比色皿各自的可測定區域；以及

基準定時設定部，將所述各比色皿的可測定區域中包含的第1基準點經過所述測光位置的時刻，分別設定為用于確定在所述各比色皿的所述分析中使用的分析對象區域的基準定時。

2.如權利要求1所述的分析裝置，

所述比色皿是收容被檢體及試劑并使其反應的比色皿，

所述分析部按每次所述間歇旋轉，針對所述各比色皿的所述分析對象區域中的多個測光點，分析所述被檢體及所述試劑的反應液。

3.如權利要求1或者權利要求2所述的分析裝置，

所述第1基準點位于所述比色皿的所述環狀方向的中間區域。

4.如權利要求1至權利要求3中的任一項所述的分析裝置，

所述第1基準點位于所述比色皿的所述環狀方向的中點。

5.如權利要求1至權利要求4中的任一項所述的分析裝置，

所述可測定區域檢測部為：在所述各比色皿的所述被照射區域之中，將伴隨著所述比色皿的所述經過而所述出射光的變化量超過規定變化量、且比所述可測定區域更靠所述比色皿的移動方向的上游側的所述比色皿的區域，檢測為所述各比色皿各自的可測定外區域，

所述基準定時設定部為：將所述各比色皿的所述可測定外區域中包含的第2基準點經過所述測光位置的時刻，分別確定為所述各比色皿中開始存儲所述測光數據的存儲開始定時，使從該存儲開始定時起規定期間的所述測光數據存儲于存儲部。

6.如權利要求5所述的分析裝置，

所述分析部將所述測光數據從所述存儲部讀出，基于該讀出的測光數據中的所述基準定時、以及與所述各比色皿分別建立了對應的校正值，確定在所述分析中使用的分析對象區域，基于該分析對象區域，分析所述比色皿的收容物。

7.如權利要求1至權利要求6中的任一項所述的分析裝置，還具備：

狹縫壓板，設于所述比色皿臺，包括與所述各比色皿對應地配置的各狹縫；以及

傳感器，對所述狹縫進行檢測，

在所述傳感器檢測到所述各狹縫的第1端時，與該狹縫對應的所述比色皿的所述第1基準點位于所述測光位置。

8.如權利要求5至權利要求7中的任一項所述的分析裝置，還具備：

狹縫壓板，設于所述比色皿臺，包括與所述各比色皿對應地配置的各狹縫；以及

傳感器，對所述狹縫進行檢測，

在所述傳感器檢測到所述各狹縫的第2端時，與該狹縫對應的所述比色皿的所述第2基準點位于所述測光位置。

9.如權利要求1至權利要求6中的任一項所述的分析裝置，

在所述各比色皿的所述第1基準點，設有使所述出射光的強度或者波長與所述可測定區域中的其他區域不同的部件。